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功率
Power（W）
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专业选型
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正规认证
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品质保障
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DX-532-48
厂家：Photonics Industries
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YLPN-100-25x100-1000-S
厂家：IPG Photonics
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慕尼黑 517-20
厂家：Coherent Inc.
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0785 L-13 A;785 nm火柴盒激光器
厂家：Integrated Optics
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GLK 32XX TS
厂家：LASOS Lasertechnik GmbH
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DIADEM IR-30
厂家：Spark Lasers
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TLG-200
功率: 6 to 15.5 dBm 应用: Optical local oscillator, Coherent communication, Optical sensingAlnair Labs Corporation的TLG-200是一款激光器，波长为186.35至1608.76 nm，功率为6至15.5 dBm，输出功率（CW）为6至15.5 dBm.有关TLG-200的更多详细信息，请联系我们。
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IK3202R-D
功率: 0.025 W 应用: Photoluminescence, Raman Spectroscopy, Biomedicine/Bioengineering, Flow Cytometry, Lithography/Grating Production, Photopolymer Exposure, Interferometry, Printing/Plate making, Precision measurement, Holography, Defect inspection 增益介质类型: Gas 激光增益介质: HeCd LaserKimmon Koha的IK3202R-D是一款波长为325 nm、功率为0.025 W、输出功率（CW）为0.025 W、工作温度为10至40摄氏度、存储温度为10至50摄氏度的激光器。有关IK3202R-D的更多详细信息，请联系我们。
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KCL-80-A
技术: Direct Diode Laser 功率: 0.08 W 应用: Photoluminescence, Flow Cytometry, Confocal Microscopy, DNA Sequence, Printing and CtP(Computer to Plate), Laser Direct Imaging, 3D Modeling, Wafer Surface Inspection 横模: TEM00来自Kimmon Koha的KCl-80-A是一种波长为445 nm、功率为0.08 W、输出功率（CW）为0.08 W、工作温度为10至35摄氏度、存储温度为10至35摄氏度的激光器。KCl-80-A的更多详细信息可在下面查看。
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GT62A 6千赫兹准分子激光器90W版本
混合气体: ArF 波长: 193 nm 平均功率: 90WGT系列的较新型号GT62A是第四代型号，采用相同的注塑锁定平台。它提供世界上较高的输出功率（90瓦），以支持双图案浸没式光刻*。为了满足各种客户需求，还提供60瓦版本的GT62A，以确保较大的投资回报。此外，GT62A采用了可延长激光室和光学器件使用寿命的技术，从而较大限度地减少停机时间，以更低的经济风险支持较先进的处理。GT系列已经被全球半导体行业的主要用户所接受，其设计理念和可靠性广受好评。GT62A基于相同的平台，因此较大限度地实现了标准化，并能够使用通用组件。因此，GT62A的用户可以从一开始就受益于其高可靠性优势。
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GT63A ArF准分子激光器60W版本
混合气体: ArF 波长: 193 nm 平均功率: 60WGT系列的较新车型GT63A是第五代车型，采用相同的注塑锁定平台。GT63A安装了四个“S”系列功能，旨在响应客户的需求，创造额外的价值：SMPL（光谱多定位LNM）*1，先进个客户认可的光谱控制（“聚焦钻孔”）技术，以实现更广泛的焦深；SGRYCOS（Sixty Gigaphoton Recycled Chamber Operation System），一种可降低运营成本的独特舱室技术；STGM（Supreme Total Gas Manager），一种气体管理系统，可在使用更少工艺气体的同时实现更高的正常运行时间；以及SMonitoring（智能监控），实时信息管理跟踪市场上较高的激光稳定性。GT系列已被我们的主要客户广泛接受；GT63A以其设计理念和高可靠性享誉全球，GT63A与之前的GT系列车型在同一平台上设计，以尽可能多地使用通用部件，从而确保在引入客户现场后立即获得高可靠性。
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IK3102R-G
功率: 0.1 W 应用: Photoluminescence, Raman Spectroscopy, Biomedicine/Bioengineering, Flow Cytometry, Lithography/Grating Production, Photopolymer Exposure, Interferometry, Printing/Plate making, Precision measurement, Holography, Defect inspection 增益介质类型: Gas 激光增益介质: HeCd LaserKimmon Koha的IK3102R-G是一款波长为325 nm、功率为0.1 W、输出功率（CW）为0.1 W、工作温度为10至40摄氏度、存储温度为10至50摄氏度的激光器。有关IK3102R-G的更多详细信息，请联系我们。
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IK5752I-G
功率: 0.04 to 0.15 W 应用: Photoluminescence, Raman Spectroscopy, Biomedicine/Bioengineering, Flow Cytometry, Lithography/Grating Production, Photopolymer Exposure, Interferometry, Printing/Plate making, Precision measurement, Holography, Defect inspectionKimmon Koha的IK5752i-G是一款波长为325至442 nm、功率为0.04至0.15 W、输出功率（CW）为0.04至0.15 W、工作温度为10至40摄氏度、存储温度为10至50摄氏度的激光器。IK5752i-G的更多详细信息请联系我们。
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248纳米高输出-低重复型GIGANEX 600W型激光器
混合气体: KrF 波长: 248 nm 平均功率: 600W我们相信，通过整合Gigaphoton从制造准分子激光器作为半导体光刻光源中获得的技术和专有技术，并将该技术和专有技术与其客户的技术相结合，新创建的Giganex也可以在半导体光刻以外的领域产生新的创新，作为高性能DUV光源。由于Giganex系列是在Gigaphoton&Aposs GT平台上设计的，并且是为较大限度的通用性而设计的，因此可以预期它是高度可靠的。此外，它继承了GT系列的高输出和高振荡频率的特点，有望实现更适合激光退火的设计。
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KDL-55-A
技术: Direct Diode Laser 功率: 0.055 W 应用: Photoluminescence, Flow Cytometry, Confocal Microscopy, DNA Sequence, Printing and CtP(Computer to Plate), Laser Direct Imaging, 3D Modeling, Wafer Surface Inspection 横模: TEM00Kimmon Koha的KDL-55-A是一款波长为488 nm、功率为0.055 W、输出功率（CW）为0.055 W、工作温度为10至35摄氏度、存储温度为10至35摄氏度的激光器。有关KDL-55-A的更多详细信息，请联系我们。
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IK5352R-D
功率: 0.018537 W 应用: Photoluminescence, Raman Spectroscopy, Biomedicine/Bioengineering, Flow Cytometry, Lithography/Grating Production, Photopolymer Exposure, Interferometry, Printing/Plate making, Precision measurement, Holography, Defect inspectionKimmon Koha的IK5352R-D是一款波长为325至442 nm、功率为0.018537 W、输出功率（CW）为0.018537 W、工作温度为10至40摄氏度、存储温度为10至50摄氏度的激光器。有关IK5352R-D的更多详细信息，请联系我们。
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G20K
技术: Excimer laser 功率: 20 W 增益介质类型: Gas 激光增益介质: Krypton fluoride来自Gigaphoton的G20K是波长为248nm、功率为20W、脉冲能量为10mJ的激光器。有关G20K的更多详细信息，请联系我们。
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高功率VCSEL?？?/a>
技术: Solid State Laser 功率: 200 W 应用: Laser Ignition, Laser Processing Machines, Sensing Applications理光公司（Ricoh Company，Ltd.）的高功率VCSEL?？槭且恢植ǔの?08 nm、功率为200 W、输出功率（脉冲）为0至200 W的激光器。高功率VCSEL?？榈母嘞晗感畔⒖刹渭挛?。
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NEO-30R4
技术: Gas Laser 功率: 3 mW 增益介质类型: Gas 激光增益介质: Helium Neon LaserNeoArk Corporation的Neo-30R4是一款激光器，波长为1.52μm，功率为3 MW，输出功率（CW）为3 MW.有关Neo-30R4的更多详细信息，请联系我们。
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G300K
KrF激光器“G300K”是加入GIGANEX产品阵容的一款新机型，它将微细等“加工优化”作为理念，在保持高输出、99%以上高开工率的同时，实现了客户ROI的最大化的型号?！癎300K”采用累计出货量达900多台的本公司半导体光刻用KrF光源G41K作为基本平台，新开发并搭载了适合高输出的电源、激光腔室。从而为客户在半导体制造后端工序中下一代微细加工工序，通过提高生产性及减少COO以实现ROI的最大化提供帮助。
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GT45A
功率: 45-90 WGT45A是一款基于先进的ArF浸没式光刻光源GT65A平台，具备高功能扩展性的机型。 通过搭载新型模块实现的“高运转率”、继承当前机型GT40A的“无氦气”技术，可以在提高生产率的同时，减轻环境负荷。 通过光谱宽度的稳定性改善、可变光谱技术、最高可达90W的高输出功率，满足客户的多样化需求。
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G60K
功率: 40-60 WKrF光刻光源G60K以继承Gigaphoton多年技术和积累经验的KrF光源技术为基础，支持超过300片/h的光刻机处理速度，通过输出功率达到以往产品的150%，并将?？槭倜映さ阶罡?00%，为改善可用性提供帮助。G60K还兼具扩展性，通过新开发的电源和?？槔粗С治蠢锤呤涑?、高频率等性能改进，满足对未来KrF曝光技术的要求?；贡昱湮藓ぜ际?，有助于减少气体的消耗量。
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NEO-30R3
技术: Gas Laser 功率: 8 mW 增益介质类型: Gas 激光增益介质: Helium Neon LaserNeoArk Corporation的Neo-30R3是一款波长为3.39μm、功率为8 MW、输出功率（CW）为8 MW的激光器。有关Neo-30R3的更多详细信息，请联系我们。
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GIGANEX系列
技术: Excimer Laser 功率: 450 to 600 W 应用: FPD manufacturing processes, Laser Annealing用于低温多晶硅平板显示行业的新型准分子激光器
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窄线宽可调谐激光器TLG-210
TLG-220是一种窄线宽波长可调谐激光源，用于相干通信和远程光学传感等应用。激光器可以锁定到ITU网格波长，并以1MHz的分辨率进行微调。激光器可以在前面板上控制，也可以通过USB/GPIB远程控制。台式版本较多可容纳4个独立的C波段激光器。
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GT62A
技术: Excimer laser 功率: 60 to 90 W 增益介质类型: Gas 激光增益介质: Argon fluoride (Arf)来自Gigaphoton的GT62A是波长为193nm、功率为60至90W、脉冲能量为10至15mJ的激光器。有关GT62A的更多详细信息，请联系我们。