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功率
Power（W）
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专业选型
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正规认证
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品质保障
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DX-532-48
厂家：Photonics Industries
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YLPN-100-25x100-1000-S
厂家：IPG Photonics
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慕尼黑 517-20
厂家：Coherent Inc.
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0785 L-13 A;785 nm火柴盒激光器
厂家：Integrated Optics
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GLK 32XX TS
厂家：LASOS Lasertechnik GmbH
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DIADEM IR-30
厂家：Spark Lasers
光电查为您提供169个产品。下载资料，获取报价，实现功能、价格及供应的优化选择。
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Frequad-M (FQM-05) DUV激光器
运行模式: CW我们有三种型号的连续波、单频266nm激光器，覆盖了广泛的输出功率范围。这些车型是我们20多年连续发展历史上的印记。我们的激光产品已有270多台，遍布全球各个领域。
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G10K 1-kHz KrF准分子激光器
混合气体: KrF 波长: 248 nm 平均功率: 10W稳定性和耐用性是准分子激光器较大的技术挑战，因为它使用氟、高压放电和深紫外线，所有这些都是高活性的。除了稳定性和耐用性外，用于光刻工具的准分子激光光源还需要激光束的高单色性和输出能量的高均匀性。作为世界上先进个满足所有这些要求的准分子激光光源，G10K自1997年上市以来，在光刻光源市场上赢得了极高的声誉。这一模式仍在世界各地的实地运作。
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GT60A 6 kHz准分子激光器
混合气体: ArF 波长: 193 nm 平均功率: 60WGigaphoton公司开始批量生产GT40A不到一年，现已成功开发出GT60A，其重复率是GT40A的1.5倍。GT60A是较新一代型号，采用与GT40A相同的注入锁定平台，已被全球半导体行业的主要用户所接受。GT40A的设计理念和可靠性在业界广受好评，由于GT60A基于同一平台，较大限度地实现标准化，并能够使用通用组件，从而确保用户从一开始就实现高可靠性。
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GT61A 6 kHz准分子激光器
混合气体: ArF 波长: 193 nm 平均功率: 60W在我们开始大规模生产和出货GT60A不到一年的时间里，Gigaphoton成功开发了GT61A。与GT60A相比，型号GT61A的光谱带宽提高了30%（E95%），激光室寿命更长，从而减少了?；奔浜臀こ杀?。GT61A是GT系列的第三代型号，采用了与GT40A和GT60A型号相同的注入锁定平台，这两个型号已经被全球半导体行业的主要用户所接受。GT系列的设计理念和可靠性在业界广受好评。由于基于相同的平台，GT61A较大限度地实现了标准化，并能够使用通用组件，从而确保用户从一开始就能实现高可靠性。
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GT63A ArF准分子激光器90W版本
混合气体: ArF 波长: 193 nm 平均功率: 90WGT系列的较新型号GT63A是第五代型号，采用相同的注锁平台。GT63A安装了四个“S”系列功能，旨在满足客户创造额外价值的需求：SMPL（光谱多定位LNM）*1，先进客户认可的光谱控制（“聚焦钻孔”）技术，以实现更广泛的焦深；SGRYCOS（Sixty Gigaphoton Recycled Chamber Operation System），一种可降低运营成本的独特舱室技术；STGM（Supreme Total Gas Manager），一种气体管理系统，可在使用更少工艺气体的同时实现更高的正常运行时间；以及SMonitoring（智能监控），实时信息管理跟踪市场上较高的激光稳定性。GT系列已被我们的主要客户广泛接受；以其设计理念和高可靠性享誉全球。GT63A的设计平台与以前的GT系列型号相同，以便使用尽可能多的通用组件，从而确保在引入客户现场后立即获得高可靠性。
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高功率工业飞秒激光器IFRIT
极化: Unspecified 空间模式: Not Specified 放大方案: Not Specified飞秒激光器被期望用于高附加值应用，例如光通信器件、金属部件、透明材料和半导体的精密加工以及生物医学、化学、分析和测量用途。同时，到目前为止，飞秒技术仅限于科学领域，而不适用于必须具备长寿命和稳定性的工业领域。使用Cyber Laser的IFRIT，您可以在温度和湿度不受控制的典型工业环境中连续工作超过10000小时，并且在没有校准的情况下连续工作四个月。凭借世界一流的稳定性、免维护操作、长寿命和世界上较小的外形尺寸，飞秒激光IFRIT实现了许多以前无法想象的先进应用。
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IK3501R-G
功率: 0.05 W 应用: Photoluminescence, Raman Spectroscopy, Biomedicine/Bioengineering, Flow Cytometry, Lithography/Grating Production, Photopolymer Exposure, Interferometry, Printing/Plate making, Precision measurement, Holography, Defect inspection 增益介质类型: Gas 激光增益介质: HeCd Laser 横模: TEM00Kimmon Koha的IK3501R-G是一款波长为325 nm、功率为0.05 W、输出功率（CW）为0.05 W、工作温度为10至40摄氏度、存储温度为10至50摄氏度的激光器。有关IK3501R-G的更多详细信息，请联系我们。
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IK4123R-B
功率: 0.014 W 应用: Photoluminescence, Raman Spectroscopy, Biomedicine/Bioengineering, Flow Cytometry, Lithography/Grating Production, Photopolymer Exposure, Interferometry, Printing/Plate making, Precision measurement, Holography, Defect inspection 增益介质类型: Gas 激光增益介质: HeCd Laser 横模: TEM00Kimmon Koha的IK4123R-B是一款波长为442 nm、功率为0.014 W、输出功率（CW）为0.014 W、工作温度为10至40摄氏度、存储温度为10至50摄氏度的激光器。有关IK4123R-B的更多详细信息，请联系我们。
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IK4151R-C
功率: 0.025 W 应用: Photoluminescence, Raman Spectroscopy, Biomedicine/Bioengineering, Flow Cytometry, Lithography/Grating Production, Photopolymer Exposure, Interferometry, Printing/Plate making, Precision measurement, Holography, Defect inspection 增益介质类型: Gas 激光增益介质: HeCd Laser 横模: TEM00Kimmon Koha的IK4151R-C是一款波长为442 nm、功率为0.025 W、输出功率（CW）为0.025 W、工作温度为10至40摄氏度、存储温度为10至50摄氏度的激光器。有关IK4151R-C的更多详细信息，请联系我们。
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IK5652R-G
功率: 0.03 to 0.12 W 应用: Photoluminescence, Raman Spectroscopy, Biomedicine/Bioengineering, Flow Cytometry, Lithography/Grating Production, Photopolymer Exposure, Interferometry, Printing/Plate making, Precision measurement, Holography, Defect inspectionKimmon Koha的IK5652R-G是一款波长为325至442 nm、功率为0.03至0.12 W、输出功率（CW）为0.03至0.12 W、工作温度为10至40摄氏度、存储温度为10至50摄氏度的激光器。有关IK5652R-G的更多详细信息，请联系我们。
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IK5751I-G
功率: 0.03 to 0.11 W 应用: Photoluminescence, Raman Spectroscopy, Biomedicine/Bioengineering, Flow Cytometry, Lithography/Grating Production, Photopolymer Exposure, Interferometry, Printing/Plate making, Precision measurement, Holography, Defect inspection 横模: TEM00Kimmon Koha的IK5751I-G是一款波长为325至442 nm、功率为0.03至0.11 W、输出功率（CW）为0.03至0.11 W、工作温度为10至40摄氏度、存储温度为10至50摄氏度的激光器。有关IK5751I-G的更多详细信息，请联系我们。
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KAL-50C-A
技术: Direct Diode Laser 功率: 0.05 W 应用: Photoluminescence, Flow Cytometry, Confocal Microscopy, DNA Sequence, Printing and CtP(Computer to Plate), Laser Direct Imaging, 3D Modeling, Wafer Surface Inspection 横模: TEM00来自Kimmon Koha的KAL-50C-A是一种波长为375 nm、功率为0.05 W、输出功率（CW）为0.05 W、工作温度为10至35摄氏度、存储温度为10至35摄氏度的激光器。KAL-50C-A的更多详细信息可参见下文。
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KBL-100-A
技术: Direct Diode Laser 功率: 0.1 W 应用: Photoluminescence, Flow Cytometry, Confocal Microscopy, DNA Sequence, Printing and CtP(Computer to Plate), Laser Direct Imaging, 3D Modeling, Wafer Surface Inspection 横模: TEM00Kimmon Koha的KBL-100-A是一款波长为405 nm、功率为0.1 W、输出功率（CW）为0.1 W、工作温度为10至35摄氏度、存储温度为10至35摄氏度的激光器。KBL-100-A的更多详细信息可在下面查看。
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KCL-75C-A
技术: Direct Diode Laser 功率: 0.075 W 应用: Photoluminescence, Flow Cytometry, Confocal Microscopy, DNA Sequence, Printing and CtP(Computer to Plate), Laser Direct Imaging, 3D Modeling, Wafer Surface Inspection 横模: TEM00来自Kimmon Koha的KCl-75C-A是一种波长为445 nm、功率为0.075 W、输出功率（CW）为0.075 W、工作温度为10至35摄氏度、存储温度为10至35摄氏度的激光器。KCl-75C-A的更多详细信息见下文。
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LVE-G0300
技术: DPSS Laser, Q-Switched Laser 功率: 3 W 应用: Cutting, Repairing, Marking, Grafting Materials, Scribing, Thin Film Ablation, Drilling, Trimming 横模: TEM00Spectronix的LVE-G0300是一款波长为532 nm、功率为3 W、输出功率（脉冲）为3 W、工作温度为15至30摄氏度、存储温度为0至50摄氏度的激光器。有关LVE-G0300的更多详细信息，请联系我们。
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HN-405
技术: Gas Laser 功率: 0.5 mW 增益介质类型: Gas 激光增益介质: Helium Neon LaserNeoArk公司的HN-405是波长为632.8nm、功率为0.5mW、输出功率（CW）为0.5mW的激光器。有关HN-405的更多详细信息，请联系我们。
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HN-410
技术: Gas Laser 功率: 1 mW 增益介质类型: Gas 激光增益介质: Helium Neon LaserNeoArk公司的HN-410是一种波长为632.8 nm、功率为1 MW、输出功率（CW）为1 MW的激光器。有关HN-410的更多详细信息，请联系我们。
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HN-530
技术: Gas Laser 功率: 3 mW 增益介质类型: Gas 激光增益介质: Helium Neon LaserNeoArk公司的HN-530是一种波长为632.8 nm、功率为3 MW、输出功率（CW）为3 MW的激光器。有关HN-530的更多详细信息，请联系我们。
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HN-550
技术: Gas Laser 功率: 5 mW 增益介质类型: Gas 激光增益介质: Helium Neon LaserNeoArk公司的HN-550是一种波长为632.8nm、功率为5mW、输出功率（CW）为5mW的激光器。有关HN-550的更多详细信息，请联系我们。