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VLS衍射光栅(高级)
沟槽密度: 2000l/mm 基底材料: MetallicInprentus使用纳米级接触模式光刻技术(一种金属表面的受控机械变形方法)制造用于X射线和紫外线应用的闪耀衍射光栅。该技术特别适合于X射线和UV衍射光学器件,其中特征必须以0.1度的角度精度成形,并且在几十厘米的距离上以纳米精度定位。
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用于FEL应用的VLS减震光栅
沟槽密度: 5000l/mm 基底材料: MetallicInprentus使用纳米级接触模式光刻技术(一种金属表面的受控机械变形方法)制造用于X射线和紫外线应用的闪耀衍射光栅。该技术特别适合于X射线和UV衍射光学器件,其中特征必须以0.1度的角度精度成形,并且在几十厘米的距离上以纳米精度定位。
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VLS衍射光栅(标准)
沟槽密度: 2000l/mm 基底材料: MetallicInprentus使用纳米级接触模式光刻技术(一种金属表面的受控机械变形方法)制造用于X射线和紫外线应用的闪耀衍射光栅。该技术特别适合于X射线和UV衍射光学器件,其中特征必须以0.1度的角度精度成形,并且在几十厘米的距离上以纳米精度定位。