IBS是所有光学涂层技术中的较高学科，可产生较致密的涂层。 NANEO将其产品系列的高质量归功于其制造工艺，即离子束溅射（IBS）。没有其他涂层技术允许工艺参数如能量和生长速率彼此独立地精确设置。使用该工艺，用惰性气体离子轰击涂层材料（靶）。撞击离子溅射掉沉积在待涂覆基材上的涂层材料颗粒。通过向工艺中添加氧气，沉积结果是理想的金属氧化物。由于其高动能，到达物体表面的溅射原子极易移动，从而发生位移，并消除累积粒子膜中的任何缺陷。这导致在产品的光学性能方面形成非常平滑和均匀的层。使用这种方法可以堆叠几百层，从而将衬底转换成具有复杂功能和较高质量标准的光学元件。与其他涂层工艺相比，离子束溅射的优点在于层的本征吸收极低，同时其光学性能具有非常高的长期稳定性。光学器件吸收更少的光，并且对于层系统的相同复杂性（即层的数量）具有更高的性能，或者具有类似的吸收和色散，可以通过使用更多的层来增加光学功能。