研究目的
研究自组装微球阵列在非相干光源照射下的近场光学特性，并优化微球尺寸及照射条件以在图案中引入额外的纳米级特征。
研究成果
研究表明，通过优化微球尺寸和曝光条件，可在自组装微球光刻图案中引入额外的纳米级特征。这些特征源于微球间的接触点，从而在光刻胶中形成星形结构，其子特征尺寸与当前低成本制造技术所能实现的分辨率相当。
研究不足
该技术受限于以下因素：对于直径小于1.5微米的球体，难以形成均匀的单层排列；且更小尺寸的球体会产生更强的衍射效应，导致最小特征结构模糊不清。
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自组装微球光刻（SA-MSL）的计算机辅助图案设计
DOI：10.1038/s41598-019-48881-z
期刊：Scientific Reports
出版年份：2019
更新时间：2025-09-11 14:15:04
摘要：
本文采用时域有限差分求解器，模拟自组装微球阵列在非相干光源照射下的近场光学特性。这类阵列通常用于微球光刻技术——每个微球作为球透镜，将紫外光聚焦至下层光刻胶层。众所周知，该技术可制备圆形特征图案阵列。但我们的模拟表明：通过优化微球尺寸与曝光条件，可在图案中引入额外的纳米级特征。这些特征源于微球接触点形成的光泄漏通道。对于六方密堆积阵列，六个接触点会在光刻胶中形成星形图案，其子特征尺寸与当前低成本制造技术可达到的分辨率相当。
作者：
Rhiannon Lees，Michael D. Cooke，Claudio Balocco，Andrew Gallant
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