研究目的
研究三维激光光刻(3DLL)技术在制造无拼接缺陷微光学元件方面的潜力,从而能够生产具有光学级表面光洁度的更大、更复杂的结构。
研究成果
研究表明,在3D激光直写(3DLL)中同步线性平台与振镜扫描仪能有效制造出无缝衔接、尺寸达数毫米的功能性微光学元件。该方法为制备高质量微光学器件提供了一种简便易行的途径,在需要精确控制微尺度光场的诸多领域具有应用潜力。
研究不足
该研究承认在毫米级尺寸下开展工作存在挑战,包括开发过程中可能出现的变形问题,部分透镜中略呈椭圆形的焦斑就表明了这一点。
研究目的
研究三维激光光刻(3DLL)技术在制造无拼接缺陷微光学元件方面的潜力,从而能够生产具有光学级表面光洁度的更大、更复杂的结构。
研究成果
研究表明,在3D激光直写(3DLL)中同步线性平台与振镜扫描仪能有效制造出无缝衔接、尺寸达数毫米的功能性微光学元件。该方法为制备高质量微光学器件提供了一种简便易行的途径,在需要精确控制微尺度光场的诸多领域具有应用潜力。
研究不足
该研究承认在毫米级尺寸下开展工作存在挑战,包括开发过程中可能出现的变形问题,部分透镜中略呈椭圆形的焦斑就表明了这一点。
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您正在对论文“[IEEE 2019欧洲激光与光电子学会议暨欧洲量子电子学会议(CLEO/Europe-EQEC) - 德国慕尼黑(2019.6.23-2019.6.27)] 2019年欧洲激光与光电子学会议暨欧洲量子电子学会议(CLEO/Europe-EQEC) - 采用飞秒激光三维光刻技术实现微光学元件的无缝制造”进行纠错
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