摘要： 在本研究中，我们采用手动椭圆偏振法测量了真空蒸镀MoO3薄膜及不同浓度（x）的ZxMoO3（Z=H+，Li+）青铜薄膜在298-453K温度范围内经不同温度退火处理后（有无氧等离子体环境）的光学常数（n,k）。同时测定了相同温度范围内MoO3薄膜及其青铜体的质量密度、热光系数（TOCs）、电子极化率系数（EPCs）以及密度温度依赖系数。研究发现：MoO3薄膜在453K退火36小时后，其密度和孔隙率较室温数据变化不超过6.4%和15%；对于青铜样品，当H0.203MoO3、Li0.076MoO3和Li0.133MoO3在氧等离子体中经不同时间453K退火后，其质量密度总体增幅和孔隙率降幅分别不超过4%和11%；而H0.211MoO3与Li0.27MoO3样品在相同条件下退火时，密度降幅和孔隙率增幅分别不超过3.4%和6%。这些变化主要源于H2O的析出导致氧扩散，在氧化物青铜层中形成浅层和深层局域态。HxMoO3（x=0.203）和LixMoO3（x=0.076,0.133）样品在453K退火（有无氧等离子体）不同时间后，其TOCs从0.10×10^-4 K^-1增至13.5×10^-4 K^-1，EPCs从0.13×10^-27 cm3 K^-1增至3.2×10^-27 cm3 K^-1；而MoO3薄膜的TOCs和密度温度依赖系数则分别从-1.2×10^-4 K^-1降至-8.86×10^-4 K^-1、从-1.86×10^-4 g cm^-3 K^-1降至-15.13×10^-4 g cm^-3 K^-1。对于H0.211MoO3和Li0.27MoO3在氧等离子体中453K退火不同时间的情况，TOC总体降幅为-0.3×10^-4 K^-1至-4.62×10^-4 K^-1，密度温度依赖系数降幅为-0.45×10^-4 g cm^-3 K^-1至-8.9×10^-4 g cm^-3 K^-1，这些变化源于线性热膨胀效应。