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薄层InSe光电探测器中光生电流机制里陷阱的作用

DOI:10.1039/c9mh01020c 期刊:Materials Horizons 出版年份:2019 更新时间:2025-09-11 14:15:04
摘要: 由于出色的电学传输特性和光电性能,薄层硒化铟(InSe)近年来在二维半导体材料领域备受关注。然而,薄层InSe光电探测器中光电流产生的机制仍不明确。本研究通过一系列实验揭示了文献报道中薄层InSe光电探测器光响应值存在显著离散性的原因。通过对不同环境条件下工作的薄层InSe基光电探测器进行光电测量,我们发现该材料的光响应度、响应时间和光电流功率依赖性之间存在强关联性。这一现象表明光栅控效应在薄层InSe薄片中起重要作用,并且是原始InSe器件超高光响应度的主要机制。此外,当原始InSe光电探测器暴露于大气环境时,我们观察到其光响应出现快速且不可逆的变化——光响应度降低伴随工作速度提升。我们将这种大气暴露导致的探测器性能变化归因于InSe中陷阱密度的减少,这是由于大气氧物种对硒空位的钝化作用。该钝化过程伴随着InSe费米能级的下移和费米能级钉扎效应的减弱,从而导致金与InSe之间肖特基势垒的升高。本研究揭示了缺陷诱导陷阱在调控二维材料器件特性中的重要作用,并为设计和功能化薄层InSe光电探测器提供了可控途径,可实现具有超高光响应度或快速响应速度的器件。
作者: Qinghua Zhao,Wei Wang,Felix Carrascoso-Plana,Wanqi Jie,Tao Wang,Andres Castellanos-Gomez,Riccardo Frisenda
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研究概述 实验方案 设备清单

研究薄层InSe光电探测器中光电流产生的机制以及环境条件对其性能的影响。

研究表明,在薄层InSe光电探测器中,缺陷诱导的陷阱对光电流产生机制起着关键作用。大气氧物种对硒空位的钝化会降低陷阱密度,通过减少光响应度并提高工作速度来影响光电探测器性能。这为针对特定应用设计和功能化薄层InSe光电探测器提供了一条可控途径。

该研究仅限于薄层InSe光电探测器及其在特定环境条件下的性能表现。研究结果可能无法直接适用于其他二维材料或不同的环境暴露情况。

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