研究目的
研究热退火和化学钝化对紫外发光二极管（UV-LED）光学和电学特性的影响。
研究成果
热处理和化学处理显著提高了紫外发光二极管（UV - LED）的电致发光（EL）强度，其中氮气环境下的热退火显示出最强的增强效果。拉曼光谱和导电原子力显微镜（cAFM）测量证实，这种增强归因于应变弛豫和表面钝化。本研究为生长后处理对光电器件性能的影响提供了见解。
研究不足
该研究未调查经处理的紫外发光二极管的长期稳定性，也未探究处理工艺在工业生产中的可扩展性。
1：实验设计与方法选择：
本研究对紫外LED进行了热退火和化学钝化处理，以探究其对光学和电学特性的影响。
2：样品选择与数据来源：
紫外LED通过金属有机化学气相沉积（MOCVD）在2英寸图案化蓝宝石衬底上生长。
3：实验设备与材料清单：
设备包括SUSS MA6掩模对准器、Plasmalab System 100 ICP180 ICP-RIE系统、兴南ZZS500电子束蒸发系统，以及奥林巴斯光学显微镜、Veeco dimension 3100 V原子力显微镜（AFM）和雷尼绍inVia Reflex光谱仪系统等多种表征工具。
4：实验步骤与操作流程：
在金属接触沉积前，LED样品依次经过KOH水溶液化学处理和快速热退火（RTA）热处理。
5：数据分析方法：
通过电致发光（EL）光谱、电流-电压（I-V）特性、阴极发光（CL）成像和拉曼光谱分析处理效果。
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获取完整内容-
Veeco dimension 3100 V atomic force microscopy (AFM)
3100 V
Veeco
Used for AFM surface morphologies characterization.
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SUSS MA6 mask aligner
MA6
SUSS
Used to define the mesas in the LED fabrication process.
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Plasmalab System 100 ICP180 ICP-RIE system
System 100 ICP180
Plasmalab
Used for reactive ion etching (RIE) of the LED mesas.
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Xingnan ZZS500 e-beam evaporation system
ZZS500
Xingnan
Used for depositing Ohmic contacts on the LED.
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Olympus optical microscopy
Olympus
Used for characterizing surface morphologies of the LEDs.
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Renishaw inVia Reflex spectrometer system
inVia Reflex
Renishaw
Used for investigating strain conditions of the LEDs.
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