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通过重复水热沉积技术在金属基底上制备取向可控的厚(K,Na)NbO<sub>3</sub>薄膜

DOI:10.2109/jcersj2.19008 期刊:Journal of the Ceramic Society of Japan 出版年份:2019 更新时间:2025-09-12 10:27:22
摘要: 通过重复水热法在240°C下于镍基金属衬底上生长了(K,Na)NbO3厚膜。金属衬底覆盖有两种缓冲层:SrRuO3/LaNiO3和SrRuO3。薄膜厚度随沉积循环次数增加而单调递增,在覆有SrRuO3/LaNiO3的金属衬底上经四次循环获得了27微米厚的薄膜。所得薄膜倾向于呈现{100}c取向,且其取向度随沉积循环次数增加而提高。与覆有SrRuO3的金属衬底相比,覆有SrRuO3/LaNiO3的金属衬底上沉积的薄膜具有更高的{100}c取向性。在5kHz下测得的剩余极化和矫顽场分别为12μC/cm2和70kV/cm,两种薄膜的有效压电系数(d33)值均为35-40pm/V。尽管薄膜取向发生变化,这些性能指标不随沉积循环次数改变而变化。结果表明,重复水热沉积技术是在金属衬底上制备厚(K,Na)NbO3薄膜的有效方法之一。
作者: Yoshiharu ITO,Akinori TATEYAMA,Yoshiko NAKAMURA,Takao SHIMIZU,Minoru KUROSAWA,Hiroshi UCHIDA,Takahisa SHIRAISHI,Takanori KIGUCHI,Toyohiko J. KONNO,Mutsuo ISHIKAWA,Hiroshi FUNAKUBO
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研究概述 实验方案 设备清单

通过重复水热循环增加镍基合金基板上(K0.88Na0.12)NbO3薄膜的厚度,并研究其晶体结构以及铁电和压电性能随薄膜厚度的变化关系。

重复水热沉积技术能有效在金属基底上制备具有可控取向的厚(K,Na)NbO3薄膜。这些薄膜无论厚度如何均表现出一致的铁电和压电性能,适用于需要柔性压电薄膜的应用场景。

该研究仅限于在具有特定缓冲层的镍基合金基底上沉积(K,Na)NbO3薄膜。所实现的最大厚度为27微米。未将该薄膜的性能与其他沉积技术或基底进行比较。

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