研究目的
研究聚甲基丙烯酸甲酯（PMMA）添加剂对喷涂法制备的CsPbBr3薄膜形貌及光电性能的影响，旨在提升光电探测器性能。
研究成果
在CsPbBr3前驱体溶液中添加PMMA可完全消除薄膜中的空隙并降低表面粗糙度，从而提升光电探测器性能——具有高响应度、良好响应速度及优异的环境稳定性。
研究不足
该研究聚焦于PMMA添加剂对CsPbBr3薄膜及光电探测器性能的影响，但未探究在20%湿度条件下超过40天以外的不同环境中的长期稳定性。
1：实验设计与方法选择
本研究通过喷涂法制备CsPbBr3薄膜，并添加PMMA以探究其对薄膜形貌及光电探测器性能的影响。
2：样品选择与数据来源
CsPbBr3薄膜制备于玻璃基底上，采用XRD、SEM、AFM、PL光谱及透射率测量进行表征。
3：实验设备与材料清单
化学试剂包括CsBr、PbBr2、DMSO、DMF、CBZ和PMMA；设备使用空气喷枪喷涂系统、扫描电镜(Hitachi SU8020)、原子力显微镜(MultiMode 8)、X射线衍射仪(PANalytical X’Pert3)、光致发光系统(LabRAM HR Evolution)及紫外-可见分光光度计(TU 1901)。
4：实验流程与操作步骤
流程包括制备CsPbBr3和CsPbBr3(PMMA)溶液、玻璃基底喷涂沉积，以及制备Au/CsPbBr3(PMMA)/ITO结构的光电探测器，对薄膜结构、光学及电学特性进行表征。
5：数据分析方法
数据分析包含XRD晶体结构分析、SEM与AFM形貌表征、PL及透射率光学特性测试，以及光电探测器I-V特性电学性能分析。
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获取完整内容-
SEM
Hitachi SU8020
Hitachi
Characterization of film morphology.
-
XRD
PANalytical X’Pert3
PANalytical
Determination of crystallinity of the films.
-
CsPbBr3
Used as the active material in photodetectors.
-
PMMA
Additive to improve film morphology and reduce surface roughness.
-
AFM
MultiMode 8
Measurement of surface roughness.
-
PL system
LabRAM HR Evolution
Detection of photoluminescence spectra.
-
UV-vis spectrophotometer
TU 1901
Measurement of transmittance.
-
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