研究目的
研究退火处理对脉冲激光沉积法制备的BaPbO3（BPO）薄膜结构和电学性能的影响。
研究成果
BPO薄膜的结构和电学性能受退火温度和氧环境显著影响。退火会提高电阻率和带隙，降低载流子浓度，随着退火温度升高，薄膜趋于绝缘特性。
研究不足
该研究仅限于特定条件（温度和氧环境）下退火对BPO薄膜的影响，未探讨其他参数或衬底的影响。
1：实验设计与方法选择：
采用传统固相反应法制备用于脉冲激光沉积（PLD）的BPO陶瓷靶材。薄膜在熔融石英基底上以600℃和0.1毫巴氧分压条件下制备。
2：1毫巴氧分压条件下制备。 样品选择与数据来源：
2. 样品选择与数据来源：使用化学计量比的BaCO?和PbO制备靶材。
3：实验设备与材料清单：
Nd:YAG激光器（Spectra Physics公司GCR 150型）、帕纳科X'Pert Pro高分辨X射线衍射仪、Veeco触针式轮廓仪、Ecopia霍尔测量系统（HMS 3000）、Jasco 570紫外分光光度计、原子力显微镜（AFM，安捷伦科技5500型）。
4：0）、Jasco 570紫外分光光度计、原子力显微镜（AFM，安捷伦科技5500型）。 实验流程与操作步骤：
4. 实验流程与操作步骤：薄膜沉积后保温30分钟，冷却至600℃，随后在过量氧气环境下分别于400℃、500℃和600℃进行退火处理。
5：0℃、500℃和600℃进行退火处理。 数据分析方法：
5. 数据分析方法：X射线衍射分析、霍尔测量、光学性能测试、原子力显微镜分析。
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XRD
X(cid:2)Pert Pro HRXRD
Panalytical
Structural analysis of thin films
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UV Spectrophotometer
570
Jasco
Optical properties measurement
-
Atomic force microscope
5500
Agilent Technologies
Microstructure analysis of thin films
-
Nd:YAG laser
GCR 150
Spectra Physics INC
Ablation of BPO thin films
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Stylus profiler
Veeco
Thickness measurement of thin films
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Hall measurement setup
HMS 3000
Ecopia
Electrical properties evaluation
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