研究目的
研究辅助离子的能量(Ea)和电流密度(Ja)对Ti-Zr三元氮化物薄膜结构和等离子体特性的影响。
研究成果
研究表明,合金离子和辅助离子均可显著调控氮化物薄膜的化学计量比、晶体结构及介电性能。(Ti,Zr)Nx薄膜的等离激元性能可通过金属成分与辅助离子参数进行调节,为可见光及近红外波段应用中的性能定制提供了方法。
研究不足
该研究聚焦于辅助离子对等离子体特性的调控,但未探究所有可能的成分组合及其他沉积参数的影响。
1:实验设计与方法选择
本研究采用离子束辅助沉积(IBAD)法制备了等离子体Ti-Zr三元氮化物薄膜,并以ZrNx和TiNx薄膜作为对照,研究了辅助离子能量(Ea)和电流密度(Ja)对薄膜性能的影响。
2:样品选择与数据来源
薄膜沉积于氧化铝(Al2O3)衬底上,通过XRD和EDS表征薄膜成分与结构,并基于复介电函数测量研究其等离子体特性。
3:实验设备与材料清单
离子束辅助沉积装置、XRD系统(布鲁克D8 Advance)、能量色散X射线光谱仪(EDS,牛津仪器X-act)、扫描电子显微镜(蔡司SUPRA TM 55)、光谱椭偏仪(Smart SE 850 DUV)。
4:实验流程与操作步骤
通过调节Ea和Ja沉积薄膜,采用XRD表征晶体结构、EDS分析成分、光谱椭偏仪测定等离子体特性。
5:数据分析方法
将薄膜介电常数拟合至Drude-Lorentz色散模型以分析其等离子体特性。
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获取完整内容-
Energy X-ray dispersive spectroscopy system
OXFORD, X-act
OXFORD
Determining the nitrogen and metal content of the films.
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Scanning electron microscope
Zeiss SUPRA TM 55
Zeiss
Attached with EDS system for composition analysis.
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XRD system
Bruker D8 Advance
Bruker
Characterizing the crystal structure of the films.
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Spectroscopic ellipsometry
Smart SE 850 DUV
Characterizing the complex dielectric function of the films.
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