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采用大功率激光照射过氧化氢光解进行抗菌化疗治疗牙周炎的口腔黏膜刺激潜力

DOI:10.1016/j.jphotobiol.2019.111633 期刊:Journal of Photochemistry and Photobiology B: Biology 出版年份:2019 更新时间:2025-09-16 10:30:52
摘要: 在本研究中,我们评估了405纳米激光装置(输出功率≥100毫瓦)通过过氧化氢(H2O2)光解进行抗菌化疗对仓鼠口腔黏膜的潜在刺激性。将12只雄性叙利亚仓鼠的24个颊囊分别接受7分钟处理:纯水(PW)、3% H2O2、100毫瓦激光照射PW、100毫瓦激光照射3% H2O2、200毫瓦激光照射PW、200毫瓦激光照射3% H2O2(每组n=4)。照射区域直径设为3毫米,对应计算得出100和200毫瓦激光的光照度(光功率密度)分别约为1400和2800毫瓦/平方厘米。另取6只动物的12个颊囊接受100毫瓦激光照射3% H2O2处理1、3或5分钟(每组n=4)。每种处理以1小时间隔重复三次。末次处理24小时后评估宏观和组织学变化,并检测该处理对牙周病原体的体外杀菌活性。结果显示:当采用100和200毫瓦功率处理≥3分钟时,405纳米激光照射3% H2O2会引起中度至重度口腔黏膜刺激;而100毫瓦处理1分钟仅导致轻度刺激。此外,100毫瓦功率1分钟H2O2光解可使活菌计数下降>4个对数级。这些发现表明:使用100毫瓦405纳米激光装置进行1分钟H2O2光解既能有效杀灭牙周病原体,其口腔黏膜刺激性可能在可接受范围内;但为避免不必要的黏膜刺激,建议采用更低激光功率。
作者: Midori Shirato,Keisuke Nakamura,Taichi Tenkumo,Yuki Kano,Kirika Ishiyama,Taro Kanno,Keiichi Sasaki,Yoshimi Niwano,Hiroshi Matsuura
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研究概述 实验方案 设备清单

评估405纳米激光(输出功率≥100毫瓦)介导的过氧化氢光解抗菌化疗对仓鼠口腔黏膜的潜在刺激性,并测定该疗法对牙周病原菌的体外杀菌活性。

使用405纳米激光以100和200毫瓦功率照射3%过氧化氢≥3分钟会导致中度至重度口腔黏膜刺激,而100毫瓦功率照射1分钟仅引起轻度刺激且能有效杀灭牙周病原体。采用较低激光功率可能更有利于避免不必要的口腔黏膜刺激。

该研究在比临床适用条件更为严苛的环境下开展,治疗每隔1小时重复进行三次。由于口腔黏膜厚度和组成的差异,这些发现可能无法直接转化应用于人类临床环境。

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