研究目的
研究在不使用分散添加剂的情况下，将石墨烯量子点（GQDs）薄膜电泳沉积（EPD）到透明基底上，并探究施加电压和沉积时间对薄膜形貌及物理光学性能的影响。
研究成果
该研究成功实现了氧化铟锡（ITO）基底上石墨烯量子点（GQDs）薄膜的无添加剂电泳沉积，在30伏电压下5分钟即可获得最佳表面形貌。这些薄膜展现出优异的物理光学特性，包括高可见光透明度和双峰光致发光特性，使其在透明导体和智能窗等应用领域极具前景。
研究不足
该研究仅限于在ITO基底上电泳沉积GQDs，未探索其他基底或沉积方法。未研究环境条件对沉积过程的影响。
1：实验设计与方法选择：
本研究采用电泳沉积法（EPD）在ITO基底上无添加剂制备GQDs薄膜，通过改变施加电压（10-50V）和沉积时间（5-25分钟）进行调控。
2：样品选择与数据来源：
GQDs通过柠檬酸热解合成并分散于乙醇中进行EPD沉积，选用ITO玻璃作为基底材料。
3：实验设备与材料清单：
包含用于EPD的直流电源、ITO基底、分散用乙醇，以及HRTEM、AFM、XPS、紫外-可见分光光度计和光致发光光谱仪等表征仪器。
4：实验流程与操作步骤：
合成GQDs并分散于乙醇后，在不同参数条件下通过EPD沉积于ITO基底，随后对薄膜进行形貌、化学成分及光学特性表征。
5：数据分析方法：
采用AFM测量表面粗糙度、XPS分析化学组成、紫外-可见光谱及光致发光光谱表征光学性能，系统分析薄膜的表面形貌、化学特性与光学性质。
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