研究目的
研究二维过渡金属二硫化物双层中热控层间堆叠位移。
研究成果
该研究表明，过渡金属二硫化物（TMD）双层中的层间堆叠位移具有可逆性，且由热应变引发。这一发现揭示了二维材料的力学与热学特性，对其在纳米器件中的应用具有重要意义。
研究不足
该研究仅限于在受控加热条件下观察过渡金属二硫化物双层膜中的层间堆叠位移。该过程的可逆性已得到证实，但应变释放和波纹形成的确切机制仍需进一步研究。
1：实验设计与方法选择：
本研究采用配备原位加热样品台的环形暗场扫描透射电子显微镜（ADF-STEM）观察过渡金属二硫化物（TMD）双层膜中层间堆叠的原子结构。
2：样品选择与数据来源：
在硅衬底上生长的二硫化钼（MoS2）和二硫化钨（WS2）双层样品被转移至原位加热样品台。
3：实验设备与材料清单：
使用校正像差的日本电子JEOL ARM300CF透射电镜进行ADF-STEM成像，高温成像采用DENS Solutions公司商用原位加热样品台。
4：实验流程与操作步骤：
通过加热样品观察层间堆叠变化，随后冷却以验证可逆性。
5：数据分析方法：
采用JEMS软件包进行多切片ADF图像模拟，使用ImageJ软件处理ADF-STEM图像。
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获取完整内容-
JEOL ARM300CF TEM
ARM300CF
JEOL
Aberration-corrected transmission electron microscopy for atomic resolution imaging.
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in situ heating holder
SH30-4M-FS
DENS Solutions
Allows for high-temperature imaging of samples under electron microscopy.
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JEMS software package
Used for multislice ADF image simulations.
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ImageJ
Used for processing ADF-STEM images.
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