研究目的
降低Cu2O/Au肖特基光电探测器的暗电流以实现高信噪比成像。
研究成果
该研究成功展示了一种简便方法，通过施加微小外部偏压来降低Cu2O/Au肖特基光电探测器的暗电流，从而显著提升开关比和图像质量。结果表明Cu2O是光学成像应用中极具前景的材料。
研究不足
该研究聚焦于Cu2O/Au肖特基光电探测器暗电流的降低及其在成像系统中的应用。这些光电探测器在实际集成到商用成像系统时，可能还需要进一步优化和测试。
1：实验设计与方法选择：
本研究采用电沉积法制备Cu2O薄膜，热蒸发法制备Au电极，构建了Cu2O/Au肖特基光电探测器。
2：样品选择与数据来源：
以掺氟氧化锡（FTO）玻璃作为电沉积Cu2O薄膜的衬底。
3：实验设备与材料清单：
使用扫描电子显微镜（ZEISS ULTRA 55）观察表面形貌，X射线衍射仪（Rigaku, Miniflex600）进行结构表征，Keithley 2601B源表测量电学性能。
4：实验步骤与操作流程：
先在FTO玻璃上沉积Cu2O薄膜，再沉积Au电极，随后测量其光响应行为和电流-电压曲线。
5：数据分析方法：
根据测量数据计算开关比（ON/OFF ratio）和比探测率（D*）。
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