研究目的
展示了一种基于AlGaN的紫外C波段激光二极管片上制备工艺，该工艺采用刻蚀镜面结构，并实现了脉冲电流注入下的室温激射。
研究成果
该基于AlGaN的晶圆级紫外C波段激光二极管（UV-C LD）制备方法，通过干法与湿法刻蚀形成垂直镜面及均匀涂覆的分布式布拉格反射镜（DBR），成功实现了脉冲电流注入下的室温激射。该方法被提出作为一种可行的低成本、高集成度UV-C LD生产技术。
研究不足
镜面小面的倾斜角度以及原子层沉积（ALD）制备的分布式布拉格反射镜（DBR）的均匀性对实现激光发射至关重要，这需要精确控制。DBR提供的反射率对于降低激光阈值非常关键，这表明其依赖于DBR沉积的质量。
1：实验设计与方法选择：
采用干法与湿法刻蚀相结合的工艺，实现光滑垂直的AlGaN（1(cid:2)100）晶面，随后通过原子层沉积均匀涂覆分布式布拉格反射镜。
2：样品选择与数据来源：
使用单AlN衬底上2英寸UV-C激光二极管外延晶圆。
3：实验设备与材料清单：
感应耦合等离子体反应离子刻蚀（ICP-RIE）、四甲基氢氧化铵（TMAH）溶液、原子层沉积（ALD）系统、光谱椭偏仪、紫外-可见光谱仪。
4：实验步骤与操作流程：
包括RIE刻蚀暴露n型限制层并形成脊形结构、湿法刻蚀暴露（1(cid:2)100）晶面、ALD沉积布拉格反射镜及电学特性表征。
5：数据分析方法：
采用传输矩阵法（TMM）计算布拉格反射镜的反射率，并与实测光谱进行对比。
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获取完整内容-
ALD system
Fiji G2
Veeco/CNT
Deposition of the distributed Bragg reflector
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ICP-RIE
Dry etching of the AlGaN facet
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TMAH solution
Wet etching to expose the (1(cid:2)100) facets
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spectroscopic ellipsometry
Measurement of the refractive index spectra of the ALD-deposited films
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ultraviolet-visible spectroscopy
Measurement of the re?ectivity spectra of the DBR
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