研究目的
研究阳极凹槽对200毫米硅衬底上无金AlGaN/GaN肖特基势垒二极管(采用门控边缘终端技术,即GET-SBDs)的反向漏电流、正向电压(VF)及动态特性的影响。
研究成果
该研究表明,通过增加阳极凹蚀循环次数来增强GET区域的静电控制,GET-SBD架构的渐变反向漏电流逐渐降低。经过更多原子层蚀刻(ALE)循环的GET-SBD器件实现了约1 nA/mm的中值漏电流和1.3 V的正向电压。研究还发现,由于ALE工艺的影响,导通状态特性存在差异,当采用六个ALE循环时,VF和RON的离散程度更大。
研究不足
该研究仅限于在200毫米硅衬底上采用栅极边缘终端的无金AlGaN/GaN肖特基势垒二极管。未研究阳极凹陷对其他类型二极管或衬底的影响。
1:实验设计与方法选择:
该研究通过增加阳极凹槽的原子层刻蚀(ALE)循环次数,探究其对GET-SBD电学特性的影响。
2:样本选择与数据来源:
采用金属有机化学气相沉积(MOCVD)技术在200毫米硅片上生长AlGaN/GaN外延层。
3:实验设备与材料清单:
设备包括安捷伦4073超高级参数测试仪和安捷伦B1505A半导体器件分析仪;材料包含AlGaN/GaN外延层及Si3N4钝化层。
4:实验流程与操作步骤:
对GET-SBD进行正向/反向特性测试、击穿与脉冲I-V测量,并开展TCAD电学仿真。
5:数据分析方法:
统计分析ALE循环次数与漏电流、开启电压及正向电压的关系,通过TCAD仿真验证实验结果。
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