研究目的
研究磁控溅射沉积的ITO薄膜在高温处理后光学和电学参数的稳定性。
研究成果
用于透明加热元件的ITO薄膜沉积最合理的技术是：在含氧气氛（O? 25% + Ar 75%）中采用金属靶材In(90%)/Sn(10%)进行反应磁控溅射，随后在空气氛围中进行退火处理。该工艺模式能确保沉积薄膜的参数在高温处理下不会劣化。
研究不足
该研究聚焦于特定条件（600?C下加热15和30分钟）下ITO薄膜的热稳定性。未探讨这些发现对其他条件或材料的适用性。
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ITO薄膜特性的温度稳定性研究
DOI：10.1051/matecconf/201814303010
期刊：MATEC Web of Conferences
出版年份：2018
更新时间：2025-09-23 15:21:01
摘要：
该论文研究了采用不同技术沉积的ITO薄膜光学和电学参数的热稳定性。通过光谱分析、霍尔测量和四探针法记录了这些参数的变化。实验表明，在O?（25%）+Ar（75%）混合气体中采用金属靶材溅射In(90%)/Sn(10%)并随后在空气氛围中退火处理的ITO薄膜具有最佳热稳定性。这使得该技术可用于生产薄膜透明电阻元件，使其能在不损害参数的情况下将半透明结构加热至100?C。
作者：
Pavel Troyan，Yury Zhidik，Ekaterina Zhidik
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