研究目的
研究纳米结构平面聚焦集热器(PFCs)作为抛物槽式技术低成本替代方案在聚光太阳能发电(CSP)应用中的可行性。
研究成果
该研究表明,采用纳米结构工程化相变流体(PFCs)用于聚光太阳能发电(CSP)具有可行性,其中平板相变流体(FPFC)设计相比多孔相变流体(MPFC)设计展现出更优的性能与可扩展性。在5倍聚光比下,FPFC可实现约40%的年光学效率,表明其在工业过程供热应用中可能具备经济优势。然而,要达到发电所需的更高效率目标,仍需在设计及制造工艺方面进行进一步改进。
研究不足
由于超表面设计的复杂性和制造工艺的保真度问题,该研究在制造和扩大超表面设计规模方面面临挑战。制造的PFC(相变流体腔)光学性能低于理论预测,部分原因是制造限制。此外,与抛物槽相比,PFC设计对入射角更敏感,需要精确的太阳跟踪。
1:实验设计与方法选择:
本研究比较了两种PFC设计——基于超表面的MPFC和类菲涅尔模型的FPFC,采用双光子光刻(TPL)制作模具,纳米压印光刻(NIL)进行复制。
2:样本选择与数据来源:
测试选取三个代表性波长(405、543和685 nm)以覆盖可见光谱范围。
3:543和685 nm)以覆盖可见光谱范围。 实验设备与材料清单:
3. 实验设备与材料清单:商用双光子光刻系统(Nanoscribe GmbH)、光聚合物IP-Dip(Nanoscribe GmbH)、KMPR光刻胶、用于模具的PDMS以及用于复制的SSQ薄膜。
4:实验流程与操作步骤:
制备过程包括通过TPL制作主模具、涂覆脱模剂、制备PDMS模具,并通过NIL将图案复制到SSQ/Ag/玻璃基底上。
5:数据分析方法:
使用配备二极管激光器和HeNe激光器的Olympus倒置显微镜进行光学表征,数据由Thorlabs DCC1540M CMOS相机采集。
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Two-photon lithography system
Nanoscribe GmbH
Nanoscribe
Fabrication of master molds for PFC designs
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Photopolymer
IP-Dip
Nanoscribe
Dielectric material for nanopatterning in TPL
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CMOS camera
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Thorlabs
Capturing bright-field images of focal planes
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Negative photoresist
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Extra layer to facilitate the patterning process in TPL
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Elastomer
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Material for creating molds in NIL process
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UV lamp
OmniCure S1000 Standard Lamp
Curing the SSQ film during the NIL process
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