研究目的
研究掺钕BaSnO3透明薄膜的结构、光学和电学特性，以探索其在光电器件中的潜在应用。
研究成果
该研究成功优化了掺钕BaSnO3薄膜的生长参数，获得了优异的结构、光学和电学性能。与其它掺杂BaSnO3薄膜相比，这些薄膜表现出更卓越的性能，使其成为光电器件中透明导电应用的理想候选材料。
研究不足
该研究聚焦于掺钕BaSnO3薄膜生长参数的优化，但未探究其长期稳定性或工业应用的可扩展性。
1：实验设计与方法选择：
本研究采用脉冲激光沉积（PLD）技术在SrTiO3衬底上生长Nd掺杂BaSnO3薄膜，优化了氧压、衬底温度和薄膜厚度参数。
2：样品选择与数据来源：
使用双面抛光的SrTiO3（001）单晶衬底。
3：实验设备与材料清单：
配备KrF准分子激光器的PLD装置、X射线衍射仪、原子力显微镜、透射电子显微镜、物理性质测量系统、紫外-可见-近红外分光光度计。
4：实验流程与操作步骤：
在不同氧压和衬底温度下生长薄膜，随后进行原位退火处理。
5：数据分析方法：
通过XRD进行结构分析，AFM观察表面形貌，TEM分析微观结构，PPMS测试电学性能，分光光度计测量光学透过率。
独家科研数据包，助您复现前沿成果，加速创新突破
获取完整内容-
Physical property measurement system
PPMS-9
Quantum Design
Used for measuring the carrier density, mobility, and resistivity of NBSO films.
-
X-ray diffractometer
PANalytical X’Pert PRO
PANalytical
Used for characterizing the crystalline quality and epitaxial properties of NBSO films.
-
Pulsed Laser Deposition (PLD) apparatus
Used for growing Nd-doped BaSnO3 thin films.
-
KrF excimer laser
Part of the PLD apparatus for film deposition.
-
Atomic force microscope
MFP-3D
Asylum Research
Used for measuring the surface morphology and roughness of NBSO films.
-
Transmission electron microscope
Tecnai G2 F20 S-Twin
Used for characterizing the film thickness and microstructure near the interface region.
-
UV-vis-NIR spectrophotometer
U-4100
Used for measuring the optical transmittance of NBSO films.
-
登录查看剩余5件设备及参数对照表
查看全部
