研究目的
为了展示三端忆阻器中首次真正同时存在的短期可塑性(STP)和长期可塑性(LTP),且这两种可塑性形式分别基于独立的物理现象,并探索其在神经形态计算中的潜力。
研究成果
该研究成功地在三端Bi2O2Se基忆阻器中同时实现了长时程增强(LTP)和短时程增强(STP),其方法是通过解耦物理LTP与STP过程的发生位置,并利用它们不同的物理机制。这一成果显著提升了器件对突触固有生物特性的模拟能力,为开发超薄、高速、低功耗的神经形态器件提供了可能。
研究不足
与铁电开关等其他机制相比,电荷俘获/释放机制本质上较为缓慢,这可能会限制器件的运行速度。
1:实验设计与方法选择:
本研究采用三端忆阻器设计,以Bi2O2Se作为沟道材料,通过不同功能区域和物理机制解耦短时程可塑性(STP)与长时程可塑性(LTP)。
2:样本选择与数据来源:
Bi2O2Se忆阻器制备于化学气相沉积(CVD)样品上,平均厚度约5纳米。
3:实验设备与材料清单:
制备过程包括电子束光刻(EBL)、热蒸镀及热原子层沉积(TALD),用于沉积Pd/Au电极和HfO2栅介质。
4:实验流程与操作规范:
电学特性表征使用Keysight B1500A半导体参数分析仪,并辅以B1530A波形发生器/快速测量单元(WGFMU)进行脉冲测量。
5:数据分析方法:
通过混合密度泛函计算解析界面能带结构及电荷俘获/释放机制。
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