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硅纳米线压阻效应的表征

DOI:10.3390/s18103304 期刊:Sensors 出版年份:2018 更新时间:2025-09-23 15:21:21
摘要: 近年来,硅纳米线(SiNWs)因其异常的压阻(PZR)效应而备受关注。尽管硅纳米线的压阻效应已被广泛研究,但其机理仍未完全阐明。本文建立了一个新的硅纳米线压阻效应模型来表征该效应:首先基于表面电荷密度对硅纳米线电阻进行建模,通过该电阻模型可估算硅纳米线的表面电荷、有效导电面积等特性;随后基于应力集中效应和压钉扎效应建立压阻效应模型。作为硅纳米线物理几何参数的函数,应力集中效应可使压阻效应增强一个数量级,而压钉扎效应也能使压阻效应比体硅材料至少提高两倍。实验结果表明,该模型能准确预测硅纳米线的压阻效应。
作者: Seohyeong Jang,Jinwoo Sung,Bobaro Chang,Taeyup Kim,Hyoungho Ko,Kyo-in Koo,Dong-il (Dan) Cho
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研究概述 实验方案 设备清单

开发一种新的硅纳米线(SiNWs)压阻(PZR)效应模型,以准确表征压阻效应。

基于应力集中和压电钳位效应开发的硅纳米线PZR模型,能够解析性地阐释硅纳米线的PZR效应。压电钳位效应产生的PZR效应至少是体硅的两倍,而应力集中效应可使PZR效应提升一个数量级。由于压电钳位效应,硅纳米线的PZR效应相对于其尺寸和所施加应力呈现非线性特征。

该研究聚焦于采用特定自上而下方法制备的硅纳米线(SiNWs)的压阻效应(PZR),可能未考虑其他制备方法引入的差异。模型的准确性取决于关于应力集中和压阻收缩效应所做的假设。

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