研究目的
开发一种新的硅纳米线(SiNWs)压阻(PZR)效应模型,以准确表征压阻效应。
研究成果
基于应力集中和压电钳位效应开发的硅纳米线PZR模型,能够解析性地阐释硅纳米线的PZR效应。压电钳位效应产生的PZR效应至少是体硅的两倍,而应力集中效应可使PZR效应提升一个数量级。由于压电钳位效应,硅纳米线的PZR效应相对于其尺寸和所施加应力呈现非线性特征。
研究不足
该研究聚焦于采用特定自上而下方法制备的硅纳米线(SiNWs)的压阻效应(PZR),可能未考虑其他制备方法引入的差异。模型的准确性取决于关于应力集中和压阻收缩效应所做的假设。
1:实验设计与方法选择:
本研究基于应力集中效应和压电钳位效应,建立了硅纳米线(SiNWs)的理论压阻模型。通过表面电荷密度对硅纳米线的电阻进行建模。
2:样本选择与数据来源:
采用自上而下的方法制备硅纳米线,该方法源自牺牲体微加工(SBM)工艺。使用p型、(111)晶向的绝缘体上硅(SOI)晶圆。
3:实验设备与材料清单:
设备包括用于测量I-V特性的Keysight 2912A源/测量单元(SMU)和用于施加静态应力的四点弯曲装置。材料包括SOI晶圆、用于氧化层沉积的等离子体增强化学气相沉积(PECVD)以及用于硅湿法刻蚀的氢氧化钾(KOH)溶液。
4:实验步骤与操作流程:
制备过程包括氧化层沉积、图案化、硅干法刻蚀、热氧化、氧化层感应耦合等离子体(ICP)干法刻蚀、硅深反应离子刻蚀(DRIE)以及硅湿法刻蚀。电学测量在暗箱中进行以消除光致效应。
5:数据分析方法:
采用有限元法(FEM)模拟估算应力集中系数,并基于表面电荷效应的电阻模型分析压阻效应。
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