研究目的
研究采用Hummer法制备的氧化石墨烯（GO）片材通过简单溶液旋涂法制备透明导电薄膜（TCF）的工艺方法，并考察化学还原与热还原处理对还原氧化石墨烯（rGO）薄膜电学及光学性能的影响。
研究成果
研究表明，采用Hummer法制备的氧化石墨烯（GO）片材和简单的溶液旋涂法可制备透明导电薄膜。由于石墨烯片层重叠较少，化学转化石墨烯（CCG）薄膜的电学性能低于热处理GO薄膜。该透明导电薄膜（TCF）的透光率和方阻分别为56%和50千欧/平方。
研究不足
该研究仅限于化学和热还原处理对还原氧化石墨烯薄膜电学和光学性质的影响。未充分探讨制备工艺的优化潜力及其他还原方法的探索。
1：实验设计与方法选择：
研究采用Hummer法制备氧化石墨烯（GO）片层，随后进行化学还原与热还原处理。通过透射电镜（TEM）、四探针测量及光学测试分析所得材料的性能。
2：样品选择与数据来源：
以天然石墨粉为主要原料，制备GO悬浮液后，分别采用NaBH4进行化学还原及在氮气?；し瘴?00°C热处理。
3：实验设备与材料清单：
场发射透射电子显微镜（TEM/FEGTEM，Tecnai F20 G2 MAT，FEI）、四探针测试台（EverBeing国际公司SR-4型）、源表仪（KEITHLEY 2400）、紫外-可见透射光谱仪（日立U-2001分光光度计）及超声波清洗器（Branson 1210）。
4：0）、紫外-可见透射光谱仪（日立U-2001分光光度计）及超声波清洗器（Branson 1210）。 实验流程与操作步骤：
4. 实验流程与操作步骤：制备GO片层并进行化学/热还原处理，表征其电学与光学特性，探究GO浓度与旋涂次数对薄膜性能的影响。
5：数据分析方法：
通过分析薄膜的电学与光学特性，确定还原方法与石墨烯相关材料性能之间的关系。
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Transmission Electron Microscope
Tecnai F20 G2 MAT
FEI
Examining the morphology and size of graphene oxide sheets
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SourceMeter
KEITHLEY 2400
KEITHLEY
Providing the source for four-point probe measurements
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UV–Vis Spectrophotometer
U-2001
Hitachi
Recording the optical property of transparent conductive films
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Four Point Probe Station
SR-4
EverBeing INT’L CORP.
Measuring the electrical property of transparent conductive films
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Sonicator
Branson 1210
Branson
Dispersing the filtered cake in DI water
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