研究目的
研究采用常压等离子体射流(APPJ)快速沉积柔性电致变色钨/铁混合氧化物(WFexOyCz)薄膜及其在添加氧气条件下的电致变色性能。
研究成果
该研究成功利用常压等离子体射流(APPJ)实现了柔性电致变色WFexOyCz薄膜的快速沉积。特定流速下氧气的引入提升了电致变色性能,观察到显著的着色与褪色现象。这些薄膜展现出高光学透过率调制、光学密度变化及色彩效率,适用于柔性电致变色器件。
研究不足
该研究仅限于APPJ沉积过程的特定条件以及指定实验装置下电致变色特性的表征。
1:实验设计与方法选择:
采用常压低温等离子体聚合技术(APPJ)在柔性PET/ITO基底上沉积WFexOyCz薄膜。将六羰基钨和二茂铁前驱体蒸气与不同流速的O2气体混合后注入空气等离子体射流。
2:样品选择与数据来源:
使用柔性PET/ITO基底。通过场发射扫描电子显微镜(FESEM)、拉曼光谱和X射线光电子能谱(XPS)对薄膜进行表征。
3:实验设备与材料清单:
APPJ装置、PET/ITO基底、六羰基钨、二茂铁、O2气体、1 M LiClO4-碳酸丙烯酯电解液。
4:实验流程与操作步骤:
在室温和常压条件下沉积薄膜,暴露时间48秒。随后进行电化学和光学性能测试。
5:数据分析方法:
采用循环伏安法和分光光度法评估电致变色性能。
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获取完整内容-
Atmospheric Pressure Plasma Jet
APPJ
Deposition of WFexOyCz films onto flexible PET/ITO substrates
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Polyethylene Terephthalate/Indium Tin Oxide
PET/ITO
Substrate for film deposition
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Tungsten Hexacarbonyl
W(CO)6
Acros Organics
Precursor for tungsten in the film
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Ferrocene
Fe(C5H5)2
Acros Organics
Precursor for iron in the film
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Field Emission Scanning Electron Microscopy
FESEM
HITACHI S-4800
Inspection of surface morphology and thicknesses of the films
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Raman Spectrometer
Renishaw 1000B
Renishaw
Analysis of the structures of the films
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X-ray Photoelectron Spectroscopy
XPS
JEOL JAMP-9500F
Analysis of chemical compositions of the films
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Galvanostat
Jiehan 5000
Measurement of EC performances
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Spectrophotometer
Labguide DH2000-BAL
Measurement of transmittances
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