研究目的
设计、制备并光学表征一种潘查拉特南-贝里光学元件,用于在1310纳米通信波长下对具有不同偏振态和轨道角动量态的光束进行解复用。
研究成果
设计的硅超表面能有效解复用具有不同自旋和轨道角动量态的光束,展现出在光通信系统中实现高度集成的潜力。
研究不足
该研究仅限于1310纳米的电信波长和特定的轨道角动量值。制造过程复杂,需要高分辨率技术。
1:实验设计与方法选择:
本研究涉及设计和制造用于解复用不同偏振和轨道角动量态光束的潘查拉特南-贝里光学元件(PBOE)。通过硅基板上制备定向正确的亚波长光栅实现几何相位控制。
2:样本选择与数据来源:
样本采用为电信波长1310 nm设计的亚波长光栅在硅基板上制备。
3:实验设备与材料清单:
制备过程包括高分辨率电子束光刻(EBL)和感应耦合等离子体反应离子刻蚀(ICP-RIE)。光学表征使用DFB激光器、空间光调制器(SLM)及多种光学元件完成。
4:实验流程与操作步骤:
制备方案包含用于光刻胶掩模制造的EBL和用于硅上图案转移的ICP-RIE。光学表征通过LCoS SLM产生OAM光束并分析远场输出。
5:数据分析方法:
基于远场强度分布和干涉图样分析光学行为以验证解复用能力。
独家科研数据包,助您复现前沿成果,加速创新突破
获取完整内容-
JBX-6300FS EBL machine
JBX-6300FS
JEOL
High-resolution electron beam lithography for resist mask fabrication.
-
LCoS spatial light modulator
X13267-08
Hamamatsu
Generation of OAM beams for optical characterization.
-
STS MESC MULTIPLEX ICP
STS MESC MULTIPLEX ICP
SemiStar Corp
Inductively coupled plasma reactive ion etching for pattern transfer onto silicon substrate.
-
DFB laser
Light source for optical characterization at 1310 nm.
-
登录查看剩余2件设备及参数对照表
查看全部