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硅纳米线涂层歧管微通道中的增强流动沸腾

DOI:10.1016/j.applthermaleng.2018.11.125 期刊:Applied Thermal Engineering 出版年份:2018 更新时间:2025-09-10 09:29:36
摘要: 开展了一项实验研究,对比分析了硅纳米线(SiNWs)涂层与普通壁面结构的硅基歧管微通道散热器中,去离子水在两相沸腾流动时所关联的传热特性、压降特性及流动不稳定性特征。该歧管微通道装置由硅基底上蚀刻的平行横向微通道与玻璃盖板上的纵向微通道构成,硅微通道底部及侧壁生长有硅纳米线。通过构建闭环实验系统展示了其热力与水力性能。实验数据覆盖质量流速250-1250 kg/m2·s范围及15-65 K过冷入口温度条件。结果表明:相同壁面过热条件下,SiNWs装置的散热热通量较普通壁面提升约20%。当质量流速为1250 kg/m2·s且入口过冷温度65 K时,可在约85K壁面过热下实现431.3 W/cm2的有效散热热通量。总体而言,SiNW涂层在增强流动沸腾传热的同时表现出更缓慢的压降增长趋势,而三维歧管微通道设计能有效抑制整个单/双相流区域的流动不稳定性。这表明在硅纳米线表面结构中集成三维流动,在高热通量冷却应用中具有重要潜力。
作者: Sheng Wang,Hsiu-Hung Chen,Chung-Lung Chen
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研究概述 实验方案 设备清单

研究涂覆硅纳米线(SiNWs)的硅基歧管微通道散热器中去离子水两相沸腾流动模式所涉及的热传递、压降及流动不稳定性特性,并与普通壁面器件进行对比。

与普通壁面微通道相比,涂覆硅纳米线(SiNW)的歧管微通道既能增强热通量耗散能力,又能降低压降。即使采用强化表面,歧管微通道设计也比传统二维微通道设计具有更优异的流动不稳定性抑制能力。要实现更高热通量的测试,还需对加热段进行进一步优化。

所达到的最大热通量受限于温度传感器的最高耐温值。测试过程中表面亲水性的逐渐退化表明,在实际应用中制造稳健的微通道冷却装置时需谨慎对待。

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