研究目的
研究影响Bi2.1Dy0.9Fe3.9Ga1.1O12组分红榴石铁氧体薄膜磁光(MO)性能的因素，特别是衬底台温度和旋转速率的影响。
研究成果
研究表明，通过调节射频磁控溅射过程中基片台温度和转速，可以优化Bi2.1Dy0.9Fe3.9Ga1.1O12石榴石薄膜的磁光性能。实验确定最佳转速约为每分钟16转时可获得最优磁光品质。
研究不足
本研究仅限于探讨衬底台温度和旋转速率对Bi2.1Dy0.9Fe3.9Ga1.1O12石榴石薄膜磁光性能的影响，未考察其他沉积参数及其相互作用。
衬底台温度和旋转速率对射频溅射Bi2.1Dy0.9Fe3.9Ga1.1O12石榴石薄膜磁光性能的影响
DOI：10.3390/app8030456
期刊：Applied Sciences
出版年份：2018
更新时间：2025-09-10 09:29:36
摘要：
采用射频磁控溅射技术在石英衬底上制备了高度铋取代的铁石榴石薄膜。我们研究了影响Bi2.1Dy0.9Fe3.9Ga1.1O12组分铁氧体石榴石薄膜磁光(MO)性能的因素(与射频磁控溅射沉积技术相关的工艺参数)。所有薄膜经退火处理后均显示出在整个可见波长范围内的高磁光响应。特别研究了衬底台温度和旋转速率对薄膜各项性能的影响。实验结果表明，这类石榴石薄膜的特性可被调控和优化，用于各种磁场驱动的纳米光子学和集成光学器件；与其它旋转速率下沉积的薄膜相比，在衬底台旋转速率接近每分钟16转时，所开发的磁光薄膜具有最佳的磁光品质。据我们所知，这是首次报道沉积参数对这种化学计量比石榴石薄膜性能影响的研究。
作者：
M. Nur-E-Alam，Mikhail Vasiliev，Kamal Alameh
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