研究目的
介绍利用热退润湿法制备金属纳米点阵列的高效工艺，重点控制平均点直径、实现点直径均匀及高度有序排列，并开发高产率的纳米点阵列制备工艺。
研究成果
该研究展示了利用热退火、网格图案化和自组织技术高效制备金属纳米点阵列的工艺。这些方法可控制点直径和排列，为生物传感器和光学器件应用提供可能。未来工作可聚焦于扩大纳米点阵列面积、提高生产效率并降低生产成本。
研究不足
传统热退火工艺在控制纳米点尺寸和形貌方面存在局限性。新工艺需要精确控制薄膜厚度和退火条件，且点转移率并非100%。
1：实验设计与方法选择：
本研究采用热退润湿法，结合网格图案化与纳米网格基底上的自组织技术，并运用基于自由能降低的纳米点团聚理论模型。
2：样品选择与数据来源：
以石英玻璃、单晶石英、硅片和蓝宝石片为基底，沉积金（Au）和铂（Pt）薄膜。
3：实验设备与材料清单：
直流溅射镀膜仪、电炉、场发射扫描电子显微镜（FE-SEM）、纳米压痕仪（NPF）、金刚石刀口工具、粘合性聚合物薄膜。
4：实验步骤与操作流程：
基底清洗、金属薄膜沉积、退火处理、NPF图案化、纳米点转移至粘合薄膜。
5：数据分析方法：
分析纳米点直径及其标准差、对比理论与实验结果、计算团聚过程中的自由能变化。
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