研究目的
研究直流反应磁控溅射法制备的p型SnOx薄膜的光学特性及其与薄膜相组成和空穴迁移率的关系。
研究成果
该研究成功地将p型SnOx薄膜的光学特性与其相组成和空穴迁移率相关联。单一SnO相的薄膜表现出更高的透明度和更低的折射率，这归因于其微观结构。带隙能量的增加与SnO相的主导地位有关。这些发现为SnOx薄膜的光学行为提供了见解，有望应用于透明电子器件。
研究不足
该研究仅限于厚度为25纳米的SnOx薄膜及特定OPP条件。光学模型的准确性取决于对薄膜粗糙度和相组成的假设。
1：实验设计与方法选择：
研究通过直流磁控溅射在反应性氩氧气氛中、不同氧分压（OPP）下沉积25纳米厚的SnOx薄膜，随后在空气中250°C退火30分钟。光学性能采用紫外-可见光谱分析。
2：样品选择与数据来源：
薄膜在5%、11%和15%氧分压下沉积。结构、形貌及光学特性通过XRD、SEM、AFM、XPS和霍尔效应测量进行表征。
3：5%、11%和15%氧分压下沉积。结构、形貌及光学特性通过XRD、SEM、AFM、XPS和霍尔效应测量进行表征。 实验设备与材料清单：
3. 实验设备与材料清单：商用磁控直流溅射系统（AJA国际）、锡（99.999%）金属靶材（Kurt J. Lesker）、X射线衍射仪（Rigaku Ultima）、扫描电镜（Zeiss Supra-40）、原子力显微镜（Veeco，型号3100 Dimension V）、XPS（PHI系列）及Film TekTM 3000光学光谱仪。
4：999%）金属靶材（Kurt J. Lesker）、X射线衍射仪（Rigaku Ultima）、扫描电镜（Zeiss Supra-40）、原子力显微镜（Veeco，型号3100 Dimension V）、XPS（PHI系列）及Film TekTM 3000光学光谱仪。 实验流程与操作步骤：
4. 实验流程与操作步骤：依次完成薄膜沉积、退火及结构/形貌/光学特性表征，光学数据分析采用Film Wizard软件。
5：数据分析方法：
结合SCI方程与BEMA的光学模型提取光学常数，通过吸收系数分析确定带隙。
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获取完整内容-
X-ray diffractometer
Rigaku Ultima
Rigaku
Structural characterization of films
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SEM
Zeiss Supra-40
Zeiss
Morphological characterization of films
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AFM
Veeco, Model 3100 Dimension V
Veeco
Topography and roughness measurement
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magnetron DC Sputtering system
AJA international
Deposition of SnOx thin films
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Tin metallic target
Kurt J. Lesker
Source material for sputtering
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XPS
PHI series
PHI
Chemical state analysis
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Film TekTM 3000
Optical spectroscopy
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