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材料科学与工程参考?？?|| 光学光刻技术

DOI：10.1016/B978-0-12-803581-8.10433-3 出版年份：2018 更新时间：2025-09-10 09:29:36
摘要： 光学光刻是一种基于光子的技术，通过将图像投影或阴影投射到涂覆于选定基底上的光敏乳剂（光刻胶）上实现。如今，它是半导体行业制造纳米电子器件最广泛使用的光刻工艺，该行业全球规模达4000亿美元。光学光刻的广泛应用直接源于其高度并行的特性，能够在极短时间内转移大量信息（即图案）。例如，以现代先进扫描仪的规格（每小时处理150-300毫米晶圆，二维图案分辨率达40纳米）计算，像素吞吐量可达每秒约1.8万亿像素。光学光刻能力的持续进步，推动了我们过去50年所经历的计算革命。
作者： Patrick Naulleau
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研究概述 实验方案

研究目的

介绍光学光刻技术、其能力与局限，以及各种可选方案，重点探讨不同光学系统中的分辨率极限和焦深问题。

研究成果

光学光刻仍是纳米电子制造中最广泛使用的光刻工艺，其持续的技术进步推动了计算革命。极紫外（EUV）光刻作为光学光刻的重要延伸，在面临独特挑战的同时，为进一步提升分辨率提供了可能。

研究不足

该论文指出，前沿光学光刻工具及掩模的高资本成本使其不太适用于低产量的实验室应用场景。同时探讨了极紫外（EUV）光刻特有的挑战，包括在EUV波长范围内实现高反射率、光源功率要求、真空纯度、掩模缺陷以及光晕效应等问题。

SCI高频之选
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  • ZEISS LSM 990 Spectral Multiplex

    型号：ZEISS LSM 990 Spectral Multiplex

    厂家：Carl Zeiss Microscopy GmbH

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    型号：ZEISS Sigma 300 with RISE

    厂家：Carl Zeiss Microscopy GmbH

    智能分析： ZEISS Sigma 300 with RISE是蔡司公司推出的一款高端光谱分析仪，集成了拉曼成像和扫描电子显微镜技术，能够提供高质量的化学和结构分析。其功能强大，支持多领域应用，但设备价格较高且操作学习曲线可能较陡。适用于科研机构和高端实验室，是材料科学和生命科学领域的理想选择。
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