研究目的
通过高场空穴输运研究声子散射建模对硅纳米线中空穴输运的影响,重点关注边界条件并与体材料声子近似进行比较。
研究成果
硅纳米线中声子的边界条件对低场空穴迁移率影响显著,但在高场下影响较弱。能量弛豫时间几乎与边界条件无关。自由边界条件可通过比准体边界条件大约25%的声子形变势来描述。该研究强调了在准弹道输运机制下,考虑硅纳米线中声子能量弛豫过程对描述缩放MOSFET器件中关键能量弛豫过程的重要性。
研究不足
仅考虑弹性声学声子和非弹性光学声子散射的近似方法无法重现能量弛豫行为。研究表明,在精确描述能量弛豫过程时,必须考虑硅纳米线中声学声子引起的能量弛豫。
1:实验设计与方法选择:
该研究采用玻尔兹曼输运方程分析硅纳米线中的空穴传输,考虑了声子散射的多种模型和边界条件。
2:样本选择与数据来源:
研究聚焦于横截面为1.9纳米×1.9纳米、沿[110]/(1?10)/(001)晶向的硅纳米线。
3:9纳米×9纳米、沿[110]/(1?10)/(001)晶向的硅纳米线。
实验设备与材料清单:
3. 实验设备与材料清单:未明确提及。
4:实验步骤与操作流程:
通过价力场模型计算纳米线中的声子色散和模式,电子-声子相互作用采用原子级处理,通过改变声子边界条件研究其影响。
5:数据分析方法:
通过求解玻尔兹曼输运方程计算不同电场下的空穴分布函数,在高电场时采用非线性方法。
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