研究目的
研究通过射频磁控溅射法沉积的铁电??BiInO3-(1 ? ??)PbTiO3薄膜的特性,并优化其铁电性能和居里温度以实现高温应用。
研究成果
优化后的??BiInO3-(1 ? ??)PbTiO3薄膜展现出优异的铁电性能,其剩余极化强度为80 μC/cm2,矫顽电场为300 kV/cm,同时具有高达640℃的居里温度。这些特性使得该薄膜适用于各行业的高温工况。
研究不足
该研究受限于溅射过程中铅(Pb)和铋(Bi)元素的蒸发损失,这会影响薄膜成分与性能。需优化溅射条件以最小化这些损失。
1:实验设计与方法选择:
本研究采用射频磁控溅射技术在特定衬底上沉积薄膜,通过调整靶材成分、衬底温度和气体压力等参数进行优化。
2:样品选择与数据来源:
薄膜沉积于(101)SrRuO3/(200)Pt/(200)MgO衬底上。
3:实验设备与材料清单:
包括射频磁控溅射系统、X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)及铁电测试仪。
4:实验流程与操作步骤:
通过XRD和SEM对薄膜进行表征,铁电性能使用铁电测试仪测量。
5:数据分析方法:
采用能谱仪分析薄膜成分,通过P-E电滞回线评估铁电性能。
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ferroelectric tester
Premier II
Radiant
Used for measuring the ferroelectric properties of thin films.
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rf magnetron sputtering system
Used for depositing thin films on substrates.
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x-ray diffraction
Used for characterizing the structure of thin films.
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scanning electron microscopy
Used for analyzing the morphology and composition of thin films.
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