研究目的
研究射频磁控溅射法制备的PET基ZnO/Al/Cu/ZnO多层膜中Al/Cu厚度比与沉积顺序对光电性能的影响。
研究成果
ZnO/Al6/Cu2/ZnO多层膜展现出最佳的综合光电性能，其方阻为108 Ω/平方，可见光平均透过率达84.73%。Al层与Cu层的沉积顺序对光电性能影响甚微。这些发现表明ZnO/Al/Cu/ZnO多层柔性薄膜在各类光电器件中具有巨大应用潜力。
研究不足
该研究的局限性在于仅测试了特定的厚度比和沉积顺序，且室温沉积工艺可能并非适用于所有应用场景。
1：实验设计与方法选择：
通过射频磁控溅射在柔性PET基底上沉积ZnO/Al/Cu/ZnO多层膜。中间Al和Cu金属层的总厚度保持在8 nm，设置四种不同的Al/Cu厚度比（7:
2：
3：
3和4:4）。
4：样品选择与数据来源：
样品包括ZnO单层膜、ZnO/Al8/ZnO、ZnO/Cu8/ZnO和ZnO/Cu2/Al6/ZnO多层膜用于对比。
5：实验设备与材料清单：
射频磁控溅射沉积系统、氧化锌靶材（纯度99.99%）、金属铜靶材（纯度99.995%）、金属铝靶材（纯度99.999%）、PET基底。
6：99%）、金属铜靶材（纯度995%）、金属铝靶材（纯度999%）、PET基底。 实验步骤与操作流程：
4. 实验步骤与操作流程：在室温下沉积薄膜，各层采用特定溅射功率（ZnO为100 W，Cu为30 W，Al为150 W）。通过速率和厚度监测仪控制膜厚。
7：数据分析方法：
表面形貌通过场发射扫描电镜观察，相组成通过能谱仪分析，方阻通过数字四探针仪测量，光学透过率通过分光光度计测定。
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RF magnetron sputtering deposition system
Used for depositing ZnO, Al, and Cu layers on PET substrates.
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zinc oxide target
Used as the source material for ZnO layers.
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metal Cu target
Used as the source material for Cu layers.
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metal Al target
Used as the source material for Al layers.
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PET substrates
Used as the flexible substrate for the multilayer films.
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