研究目的
研究退火温度对采用掠射角离子辅助电子束蒸发法沉积的ITO纳米棒薄膜的结构、电学、光学及润湿性特性的影响。
研究成果
退火显著影响ITO纳米棒薄膜的结构、电学和润湿性，较高温度下结晶度提高，但光学特性和表面形貌基本不受影响。500°C时从疏水性向亲水性的转变表明润湿模型从Cassie-Baxter模型转变为Wenzel模型。
研究不足
本研究仅限于空气中退火对ITO纳米棒薄膜的影响。未探究其他退火气氛或更长退火时间的影响。此外，研究聚焦于特定范围的退火温度（100°C至500°C）。
1：实验设计与方法选择：
采用离子辅助电子束蒸发结合GLAD技术沉积ITO纳米棒薄膜，随后在空气环境中以100°C至500°C温度范围退火两小时。
2：样品选择与数据来源：
使用载玻片和Si(100)晶圆作为基底，沉积前用溶剂清洗样品以去除有机和油性残留物。
3：实验设备与材料清单：
离子辅助电子束蒸发系统（DVB SJ-26C）、X射线衍射仪（D8 Discover）、原子力显微镜（AFM XE-120）、场发射扫描电子显微镜（FESEM日立S-4700）、紫外-可见分光光度计（珀金埃尔默Lambda 900）、四探针方阻测试仪及接触角测量仪（OCA 20）。
4：0）、场发射扫描电子显微镜（FESEM日立S-4700）、紫外-可见分光光度计（珀金埃尔默Lambda 900）、四探针方阻测试仪及接触角测量仪（OCA 20）。 实验流程与操作步骤：
4. 实验流程与操作步骤：将沉积腔抽至本底压强低于3×10^-6托，采用90 wt%氧化铟和10 wt%氧化锡的ITO靶材，通过85°基底倾斜角的GLAD技术沉积，沉积后按设定温度退火。
5：数据分析方法：
XRD分析结晶度，AFM和FESEM观察表面形貌，UV-Vis分光光度计测定光学性能，四探针法测试电学特性，接触角测量评估润湿性。
独家科研数据包，助您复现前沿成果，加速创新突破
获取完整内容-
field-emission scanning electron microscope
Hitachi S-4700
Hitachi
Examination of surface morphology and cross-section
-
UV-Vis spectrophotometer
Lambda 900
Perkin-Elmer
Measurement of optical transmittance spectra
-
ion-assisted electron beam evaporation system
DVB SJ-26C
Deposition of ITO nanorod films
-
X-ray diffractometer
D8 Discover
Analysis of crystalline structures
-
atomic force microscope
XE-120
Examination of surface morphology
-
four-point probe
Measurement of sheet resistance
-
contact angle measuring instrument
OCA 20
Measurement of contact angles
-
登录查看剩余5件设备及参数对照表
查看全部
