研究目的
采用纯金属Zn靶和ZnO陶瓷靶通过射频磁控溅射制备ZnO薄膜的结构与性能对比研究。
研究成果
使用氧化锌陶瓷靶材制备的氧化锌薄膜比使用纯金属锌靶材制备的薄膜具有更优异的性能，这归因于氧空位和薄膜缺陷的减少。在衬底温度为400°C时获得了最佳性能。
研究不足
该研究聚焦于两种溅射靶材的对比以及衬底温度的影响，但未探究其他沉积参数或替代衬底。
1：实验设计与方法选择：
采用纯金属锌靶和氧化锌陶瓷靶，通过射频磁控溅射法在不同衬底温度（300°C至600°C）下在硅衬底上沉积氧化锌薄膜。
2：样品选择与数据来源：
使用3英寸双面抛光Si(100)衬底。
3：实验设备与材料清单：
真空腔室（JGP-560）、射频磁控溅射系统、纯金属锌靶、氧化锌陶瓷靶、氩氧混合气体。
4：0）、射频磁控溅射系统、纯金属锌靶、氧化锌陶瓷靶、氩氧混合气体。 实验步骤与操作流程：
4. 实验步骤与操作流程：对衬底进行清洗、加热，并在受控条件下沉积氧化锌薄膜。
5：数据分析方法：
采用X射线衍射仪（XRD）、原子力显微镜（AFM）、四探针电阻率测试仪及紫外分光光度计进行表征。
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X-ray diffractometer
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