研究目的
提出一种稳健的测量与校正策略，用于溅射沉积过程中等离子体发射的SDRS信号校正，并以银在硅基底上的岛状生长为例进行说明。
研究成果
所提出的方法成功校正了溅射沉积过程中紫外-可见差分反射光谱中的杂散等离子体发射，为理解薄膜生长的初始阶段提供了高质量数据。
研究不足
该协议依赖于等离子体发射随时间稳定的假设，并需要特定的测量序列，这些序列可能不适用于所有实验条件。
1：实验设计与方法选择：
本研究采用表面微分反射率光谱法（SDRS）监测溅射过程中薄膜沉积的初始阶段。该方法包含对SDRS信号进行等离子体杂散贡献校正。
2：样品选择与数据来源：
使用磁控溅射技术在硅基底上沉积银膜，监测沉积前、中、后基底的反射率变化。
3：实验设备与材料清单：
配备三个圆柱形磁控靶的磁控溅射装置、氘卤素灯照明系统，以及搭载硅电荷耦合器件探测器的多通道宽波段光栅光谱仪。
4：实验流程与操作步骤：
通过有无等离子体或照明光的生长前后测量协议，对信号进行等离子体贡献校正。
5：数据分析方法：
通过直接测量等离子体发射贡献并从总信号中扣除，实现微分反射率信号的等离子体发射校正。
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tapping atomic force microscopy
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Bruker
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Analyzing the reflected light split by a Wollaston polarizer into two beams corresponding to the two polarization states s and p.
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