研究目的
研究硫化亚锡（SnS）与电化学还原氧化石墨烯（ERGO）异质结的形成及其表征，用于光电化学应用。
研究成果
通过两个电化学步骤成功构建了SnS/ERGO异质结，其光电流性能较纯SnS薄膜显著提升。这种增强效应源于ERGO中间层促进电子传输以及SnS薄膜在ERGO上的结构改性。该异质结在光电催化和光电器件领域具有应用潜力。
研究不足
该研究承认，由于半导体表面不规则及存在极薄膜层，Mott-Schottky分析中可能存在频率色散现象。Mott-Schottky曲线呈线性的电位区间较窄，这可能限制部分测量的准确性。
1：实验设计与方法选择：
本研究包含两个电化学步骤：首先在氟掺杂氧化锡（FTO）电极上将氧化石墨烯（GO）电化学还原为还原氧化石墨烯（ERGO），随后在ERGO/FTO基底上进行SnS的电沉积。
2：样品选择与数据来源：
样品采用FTO和ITO基底制备。
3：实验设备与材料清单：
使用CHI电化学工作站（型号604C）、扫描电子显微镜（HITACHI SU 3500）、场发射扫描电子显微镜（Helios Nanolab 650双束系统）、X射线衍射仪（Philips PW180）、拉曼显微镜（Renishaw Invia）、紫外-可见分光光度计（Perkin Elmer Lambda 25）以及Autolab电化学工作站（型号PGSTAT 302 N，配备FRA32M?？椋?。
4：0）、场发射扫描电子显微镜（Helios Nanolab 650双束系统）、X射线衍射仪（Philips PW180）、拉曼显微镜（Renishaw Invia）、紫外-可见分光光度计（Perkin Elmer Lambda 25）以及Autolab电化学工作站（型号PGSTAT 302 N，配备FRA32M模块）。 实验流程与操作步骤：
4. 实验流程与操作步骤：通过改进的Hummer法合成GO，将其电化学还原为ERGO，随后在ERGO/FTO上电沉积SnS。
5：数据分析方法：
采用XRD、SEM、FESEM、EDS、拉曼光谱、紫外-可见光谱、电化学阻抗谱（EIS）及线性扫描光电伏安法进行数据分析。
独家科研数据包，助您复现前沿成果，加速创新突破
获取完整内容-
CHI potentiostat
604C
CHI
Electrochemical measurements
-
SEM
SU 3500
HITACHI
Surface morphology analysis
-
FESEM
Helios Nanolab 650 Dual Beam
FEI
High-resolution surface imaging
-
UV-vis spectrophotometer
Lambda 25
Perkin Elmer
Optical properties measurement
-
Autolab Potentiostat
PGSTAT 302 N
Autolab
Electrochemical impedance spectroscopy and photovoltammetry measurements
-
XRD
PW180
Philips
Crystalline character analysis
-
Raman microscope
Invia
Renishaw
Raman spectra recording
-
登录查看剩余5件设备及参数对照表
查看全部
