研究目的
研究一种特定草药对某种疾病的治疗效果。
研究成果
与纯WO3、BiVO4及WO3/BiVO4电极相比，所设计的WO3/BiVO4/ZnO光阳极在不使用助催化剂和空穴清除剂的情况下，表现出显著增强的光电流密度（1.23 V vs. RHE时约2.96 mA cm-2）、更低的起始电位（约300 mV vs. RHE）、更高的IPCE值（380 nm处达72.8%）以及优异的稳定性（反应6小时后仅衰减约9%）。
研究不足
实验的技术和应用限制，以及潜在的优化领域。
1：实验设计与方法选择：
WO3/BiVO4/ZnO光阳极的制备主要包括三个典型步骤，即WO3纳米片阵列的水热生长、BiVO4薄膜的旋涂工艺以及通过原子层沉积（ALD）法沉积ZnO层。
2：样品选择与数据来源：
所有化学试剂均为分析纯，使用时未经进一步提纯。
3：实验设备与材料清单：
场发射扫描电子显微镜（FESEM，S-4800，日立，日本）、高分辨透射电子显微镜（HRTEM，JEM-2100F，日本电子，日本）、X射线粉末衍射仪（XRD，D8 Advance，布鲁克，德国）、X射线光电子能谱仪（XPS，赛默飞世尔科技ESCALAB 250光谱仪）、紫外-可见分光光度计（U-3900分光光度计，日立，日本）、接触角测量系统（FTA125，First Ten Angstroms公司，英国朴茨茅斯）。
4：实验步骤与操作流程：
通过水热法制备WO3纳米片阵列，随后采用旋涂工艺覆盖BiVO4以构建WO3/BiVO4 II型异质结。为进一步提升光电化学性能，通过低温原子层沉积（ALD）工艺在WO3/BiVO4复合纳米片阵列上包覆一层富含氧空位的薄钝化ZnO层。
5：数据分析方法：
光电化学性能测试采用Autolab PGSTAT302G工作站，使用典型的三电极体系进行。
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Field-emission scanning electron microscope
S-4800
Hitachi
Examining the microstructures of the electrodes
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High-resolution transmission electron microscopy
JEM-2100F
JEOL
Examining the microstructures of the electrodes
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X-ray powder diffraction
D8 Advance
Bruker
Characterizing the obtained products
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X-ray photoelectron spectroscopy
ESCALAB 250
ThermoFisher Scientific
Analyzing the chemical states of the elements in the photoanode
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Ultraviolet-visible spectrophotometer
U-3900
Hitachi
Conducting the optical property measurements
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Contact-angle system
FTA125
First Ten Angstroms, Inc.
Measuring the contact angles
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