研究目的
研究用于显示器低反射涂层的MoOx:TaOx薄膜的非反应性直流溅射工艺，重点关注其光学特性、色彩调节及热稳定性。
研究成果
采用陶瓷MoOx靶材进行非反应性直流溅射，可提供稳定的工艺来沉积高度吸光、深色的薄膜层，适用于显示器的抗反射应用。通过调节膜层厚度和底层金属，可以优化包括色彩印象在内的光学特性。热稳定性显示在约350°C时会出现重结晶转变，而在较低温度下电学性能有所提升。关于蚀刻工艺和化学稳定性的研究仍需进一步开展。
研究不足
该研究未涵盖对工艺集成至关重要的薄膜湿法与干法刻蚀行为、化学稳定性及附着力。热稳定性研究结果仅针对所研究的特定成分，可能因不同薄膜特性或相邻层而有所变化。
1：实验设计与方法选择：
采用陶瓷MoOx靶材的非反应性直流溅射沉积薄膜，避免了反应溅射的问题。研究重点为光学与结构表征。
2：样品选择与数据来源：
使用玻璃基板（康宁Eagle XG，50x50x0.7 mm）。在室温下沉积MoOx与金属（如Cu、Al、Mo、Ti）的双层结构。
3：7 mm）。在室温下沉积MoOx与金属（如Cu、Al、Mo、Ti）的双层结构。 实验设备与材料清单：
3. 实验设备与材料清单：设备包括直流溅射系统、用于光学测量的珀金埃尔默Lambda 950分光光度计、用于截面成像的扫描电子显微镜（SEM）、采用Cu Kα辐射的X射线衍射（XRD）装置，以及用于电阻率测量的四探针装置。材料包括陶瓷MoOx靶材、氩气和各种金属层。
4：实验步骤与操作流程：
以不同功率密度和氩气压力进行溅射。从玻璃侧以7度角测量光学反射率。在氮气氛围下以300至450°C退火一小时。使用XRD和SEM分析结构变化。
5：数据分析方法：
利用反射率数据通过标准公式计算CIE三刺激值和色坐标（L* a* b*，x y z）。直接测量电阻率，并将XRD光谱与参考数据进行比较。
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photo-spectrometer
Lambda 950
Perkin Elmer
Used for optical reflection measurements, illuminating samples and measuring reflectance as a function of wavelength.
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glass substrate
Eagle XG
Corning
Used as the base material for depositing thin film layers in experiments.
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Scanning Electron Microscope
SEM
Used for imaging cross-sections of layer structures to analyze film morphology.
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X-ray diffraction setup
XRD with Cu Kα radiation
Used to analyze the crystalline structure of films through diffraction patterns.
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four-probe setup
Used for measuring the resistivity of thin film samples.
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ceramic MoOx target
4-inch test target
Used in the DC-sputtering process to deposit molybdenum oxide films without reactive gases.
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