研究目的
比较在极长波红外传感应用中,使用InAs/GaInSb超晶格设计相较于InAs/GaSb超晶格设计以降低电子掺杂水平的技术优势。
研究成果
与InAs/GaSb和InAs/Ga0.70In0.30Sb设计相比,InAs/Ga0.75In0.25Sb超晶格设计具有更低的电子本底掺杂密度,使其成为甚长波红外器件中长寿命红外材料的更优候选方案,不过仍需进一步研究以实现优化。
研究不足
该研究仅限于特定的超晶格结构设计与生长条件;生长缺陷与界面污染的差异可能影响结果。更薄的三元层外延挑战及应变平衡问题或限制实际应用。
1:实验设计与方法选择:
研究采用8×8包络函数近似模型设计II型超晶格结构以计算能带特性,随后通过分子束外延生长,并利用变温霍尔效应测量和高分辨率X射线衍射进行表征。
2:样品选择与数据来源:
样品生长于n型GaSb衬底上,采用特定超晶格设计(如InAs/GaSb、InAs/Ga0.75In0.25Sb、InAs/Ga0.70In0.30Sb),目标截止波长为12和16微米。
3:75In25Sb、InAs/Ga70In30Sb),目标截止波长为12和16微米。
实验设备与材料清单:
3. 实验设备与材料清单:用于生长的分子束外延系统、用于结构分析的高分辨率X射线衍射仪,以及用于电学表征的变温霍尔效应测量装置。
4:实验流程与操作步骤:
生长过程包括缓冲层沉积、在受控温度和束流比下生长超晶格层,最后覆盖盖层。测量包括X射线衍射确认周期和应变,以及10至300K范围内的霍尔效应测量。
5:数据分析方法:
提取电子浓度和迁移率数据,并对不同超晶格设计进行比较。
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