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等离子放电装置中碳酸化(Mg,Ca)O保护层的退火修复工艺

DOI：10.7567/JJAP.57.096001 期刊：Japanese Journal of Applied Physics 出版年份：2018 更新时间：2025-09-23 22:04:20
摘要： 研究了平板等离子体放电装置?；げ?Mg,Ca)O的碳化行为及脱碳退火工艺。与常规MgO?；げ阆啾?，(Mg,Ca)O保护层同时表现出高低两种放电电压。定量X射线光电子能谱分析表明，高放电电压由钙碳化引起。暴露于含H2O的空气会加速钙碳化进程，而干燥空气则无此效应。此外，一旦(Mg,Ca)O发生碳化，在生产过程中采用的空气退火温度下无法实现钙的脱碳。我们建议采用真空退火法有效促进钙脱碳，从而维持(Mg,Ca)O?；げ愕壤胱犹宸诺缱爸玫牡头诺绲缪埂?
作者： Eiji Takeda，Takehiro Zukawa，Takuji Tsujita，Kyohei Yoshino，Yukihiro Morita
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研究概述 实验方案 设备清单

研究目的

研究以(Mg,Ca)O作为等离子体放电装置?；げ闶庇敕诺绲缪瓜喙氐幕б蛩?，包括暴露环境的影响及退火工艺的恢复效果。

研究成果

(Mg,Ca)O保护层中Ca的碳化会导致放电电压升高，通过真空退火促进脱碳可缓解该现象。为在实际生产中实现等离子体放电器件低放电电压与高发光效率，提出采用"空气退火+真空退火"的联合退火工艺。

研究不足

该研究仅限于特定的面板规格和条件（例如，42英寸面板，100%氙气含量）。XPS分析可能受到样品处理过程中表面污染的影响。真空退火对脱碳有效，但对去除有机残留物无效，需结合空气退火进行处理。

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