研究目的
研究不同剂量8 MeV电子束辐照对PVDF-HFP/PEO共混聚合物电解质膜结构、形貌及光学性能的影响。
研究成果
电子束辐照降低了结晶度，改变了化学键，减小了球晶尺寸，使光学吸收增强并发生红移，同时降低了能带隙和乌尔巴赫能量，表明非晶态程度提高且缺陷形成增加。这些改变提升了材料的物理性能，使其在光电器件中具有潜在应用价值。
研究不足
该研究仅限于特定的电子束剂量（40、80、120千戈瑞）和一种聚合物共混比例，未探究其他剂量或配比的影响。潜在的优化方案包括调整辐照参数或共混比例以改善性能。
1：实验设计与方法选择：
本研究通过溶液浇铸法制备PVDF-HFP/PEO共混薄膜，并采用8 MeV电子束以40、80和120 kGy剂量辐照，分析其物理性质变化。理论分析方法包括：FT-IR测定化学键合、XRD分析结晶度、FESEM观察形貌、UV-可见光谱研究光学性能。
2：80和120 kGy剂量辐照，分析其物理性质变化。理论分析方法包括：
2. 样品选择与数据来源：以DMF为溶剂，按90:10重量比配制PVDF-HFP与PEO共混物制备薄膜。样品在印度RRCAT Indore实验室进行辐照。
3：样品选择与数据来源：
3. 实验设备与材料清单：傅里叶变换红外光谱仪(FT-IR)、X射线衍射仪(XRD)、场发射扫描电镜(FESEM,Sigma Zeiss)、紫外-可见分光光度计、8 MeV电子束辐照装置。材料：PVDF-HFP(Mw:455,000 g/mol)、PEO(Mw:5×10^6 g/mol)、DMF(Mw:73.09 g/mol)。
4：实验设备与材料清单：
4. 实验流程与操作步骤：通过溶液浇铸成膜、干燥后辐照，辐照后采用FT-IR、XRD、FESEM和UV-可见光谱分析结构、结晶度、形貌及光吸收变化。
5：09 g/mol)。 实验流程与操作步骤：
5. 数据分析方法：采用Debye-Scherrer公式和峰面积计算结晶度百分比；基于UV-可见数据，通过Davis-Mott模型和Tauc图谱确定光学带隙与Urbach能量。
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