1：实验设计与方法选择：

采用热丝化学气相沉积（HWCVD）技术，通过改变工艺压力（10-100 Pa），以氢气稀释硅烷（氢气中含10%硅烷）和甲烷的混合气体为前驱体制备硅薄膜。整体设计思路是研究腔室压力对薄膜性能的影响。理论模型包括气相反应和表面扩散机制。

2：样品选择与数据来源：

薄膜沉积在无碱硼硅酸盐玻璃（康宁1737）基底上。选择标准包括固定基底温度（300°C）、灯丝温度（2000°C）、沉积时间（15分钟）和气体流量比（硅烷与甲烷为10:1）。数据来源包括结构、光学和电学测量。

3：实验设备与材料清单：

配备水平灯丝组件的HWCVD系统、钨丝（直径0.5毫米）、无碱硼硅酸盐玻璃（康宁1737）、氢气稀释硅烷（氢气中含10%硅烷）、纯甲烷、X射线衍射仪（布鲁克D8 Advance）、拉曼光谱仪（堀场Jobin Yvon LabRAM HR）、场发射扫描电子显微镜（卡尔蔡司Sigma）、紫外-可见-近红外分光光度计（珀金埃尔默Lambda 950）、银浆电极。

4：5毫米）、无碱硼硅酸盐玻璃（康宁1737）、氢气稀释硅烷（氢气中含10%硅烷）、纯甲烷、X射线衍射仪（布鲁克D8 Advance）、拉曼光谱仪（堀场Jobin Yvon LabRAM HR）、场发射扫描电子显微镜（卡尔蔡司Sigma）、紫外-可见-近红外分光光度计（珀金埃尔默Lambda 950）、银浆电极。 实验步骤与操作流程：

4. 实验步骤与操作流程：沉积前将腔室抽真空至约0.001 Pa。通过改变压力（10-100 Pa）并在固定参数下沉积薄膜。使用三根平行排列的钨丝，间距1厘米，灯丝与基底距离为4厘米。通过XRD和拉曼光谱进行结构研究，通过FESEM观察形貌，通过紫外-可见-近红外透射光谱采用Swanepoel法计算厚度和带隙，通过共面几何结构的银浆电极双探针法测量电导率。

5：001 Pa。通过改变压力（10-100 Pa）并在固定参数下沉积薄膜。使用三根平行排列的钨丝，间距1厘米，灯丝与基底距离为4厘米。通过XRD和拉曼光谱进行结构研究，通过FESEM观察形貌，通过紫外-可见-近红外透射光谱采用Swanepoel法计算厚度和带隙，通过共面几何结构的银浆电极双探针法测量电导率。 数据分析方法：

5. 数据分析方法：对拉曼光谱进行解卷积以计算键角偏差（ΔθB）、中程有序度（MRO）、晶粒尺寸、总结晶分数和纳米晶分数。分析XRD图谱以确定结晶度和物相。通过紫外-可见-近红外透射光谱采用Swanepoel法计算厚度和带隙。测量并分析暗电导率和光电导率。