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Cr/C Reflective Multilayer for Wavelength of 44.8 ?

DOI:10.1166/jnn.2019.16475 期刊:Journal of Nanoscience and Nanotechnology 出版年份:2019 更新时间:2025-09-04 15:30:14
摘要: The working wavelength of Ni-like, Ta soft X-ray laser is 44.8 ?, just near the “water window.” High re?ection multilayers are required for this kind of laser in China. In this work, we design and fabricate carbon-based multilayer re?ective samples. The Cr/C multilayer was selected from proposed candidates such as Co/C, Ni/C, and CoCr/C material combinations. The period thickness is only 22.6 ?. Cr/C multilayers were deposited by the magnetron sputtering method. Multilayers with bi-layer numbers of 150, 200, 250 and 300 were deposited onto super polished silicon wafers. All multilayers have been characterized by grazing incidence X-ray re?ectance (GIXRR). Then, near-normal incidence re?ectance measurements were performed at beamline 3W1B, Beijing synchrotron radiation (BSRF). The highest re?ectance of 13.2% is achieved with the bi-layer number of 300. Transmission electron microscopy measurements also clearly show the sharp Cr–C interfaces in the multilayer.
作者: Jingtao Zhu,Jinwen Chen,Haochuan Li,Jiayi Zhang,Mingqi Cui
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Designing and fabricating high-re?ectivity Cr/C multilayers for Ni-like Ta soft X-ray lasers operating at 44.8 ?.

The study successfully fabricated Cr/C high-re?ectivity multilayers with varying bi-layer numbers, achieving the highest re?ectance of 13.2% with a bi-layer number of 300. The results indicate good interface quality with no significant roughness growth, although period thickness drift was observed to scale with bi-layer number. The findings suggest that Cr/C multilayers are promising for applications requiring high re?ectivity at wavelengths near the 'water window'.

The main limitations include the short period thickness and the large bi-layer number needed for re?ectance saturation, which can lead to interface defects and period ?uctuation. Additionally, increasing the bi-layer number may not always enhance re?ectance due to roughness growth and layer thickness drifts.

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