通过刻蚀优化实现金刚石微盘在光力学中Q值超过30万

摘要： 单晶金刚石（SCD）中能同时限制并共局域光子与声子的纳米光子结构，在量子信息科学与光力学领域极具应用价值。本文描述了一种针对光力学应用优化的SCD微盘结构刻蚀工艺。该工艺使器件光学品质因数Q值较先前成果提升4倍，达到Q～335,000，足以支持边带分辨的相干腔光力实验。通过分析光学损耗与背向散射率，我们发现Q值仍受限于表面缺陷。此外，我们还提出一种改变微盘基座几何形状的技术，该技术有望降低机械耗散。