工作压力对射频溅射SnS薄膜性能及SnS基太阳能电池光伏性能的影响

摘要： 采用单锡硫(SnS)靶材通过射频磁控溅射法制备SnS薄膜，研究工作压强(0.6 Pa至2.6 Pa)变化对薄膜结构、化学成分、电学及光学特性的影响。X射线衍射结果表明所有SnS薄膜均呈现(111)晶面择优生长取向，X射线光电子能谱证实薄膜为正交晶系结构且具有324.5 eV的结合能。透射光谱长波红移导致光学带隙从1.56 eV降至1.47 eV。以工作压强2.0 Pa制备的SnS吸收层构建的传统结构太阳能电池(Al/ITO/i-ZnO/CdS/SnS/Mo/SLG)获得最高0.58%的光电转换效率，该结果较其他传统结构报道具有显著优势。