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低温下铜(111)表面单个CuPc分子的可控切换
摘要: 在吸附于Cu(111)表面的单个酞菁铜分子上方密集的恒定高度网格上,测量了隧穿电流随施加偏压变化的低温特性。通过适当调节偏压,该分子可在两种构型间可逆切换——这两种构型在隧穿电流图中表现为相对极大值对旋转90°?;诎兜禄嗷プ饔玫拿芏确汉扑憬沂玖似涞撞愎瓜螅阂桓鯟2v对称基态,以及两个能量等效态(分子绕其中心扭转并旋转±7°)。当针尖偏压超过200 mV时,观察到如先前电报噪声测量[Schaffert等人,《自然·材料》12卷223页(2013年)]所示的位置依赖性电流切换现象。在零电压附近的小电压区间内,实测电流呈现双稳态特性。通过将电压扫过分子上方特定位置的明确定义正负阈值,或采用恒定电流扫描配合降低的反向偏压,可触发切换至特定状态。
关键词: 密度泛函计算、范德华相互作用、隧穿电流、酞菁铜、Cu(111)表面、双稳态电流
更新于2025-09-23 15:19:57