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采用响应面法优化行星式化学气相沉积反应器的操作参数
摘要： 薄膜厚度均匀性是衡量采用化学气相沉积（CVD）工艺进行硅选择性外延生长（SEG）时沉积层质量的重要指标。薄膜均匀性与诸多参数相关，如晶圆转速、总流量、组分浓度、基座温度及操作压力等。因此，解决多参数耦合问题并以高效计算方式实现优化至关重要。本研究采用响应面法（RSM）分析不同操作参数对硅沉积均匀性的复杂耦合作用?；诩扑懔魈辶ρВ–FD）模型，建立了可预测包含温度、压力、晶圆转速及二氯二氢硅（DCS）摩尔分数等参数非均匀性的精确RSM模型。通过方差分析（ANOVA）确定经验方程中各因素对预期响应的统计显著性，其结果显示回归模型的拟合优度良好。本研究问题的最佳操作参数组合为：基座温度1122.2K、晶圆转速23.72rpm、操作压力112Torr、DCS摩尔分数0.01186。验证测试与最优解表明，结果与CFD模型高度吻合，计算解与预测值之间的最大偏差仅为2.93%。
关键词： 响应面法、化学气相沉积、外延生长、沉积均匀性
更新于2025-09-10 09:29:36
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可见光下Sm掺杂CdS光催化降解酸性红1的优化、动力学及热力学研究
摘要： 通过超声辅助共沉淀法合成了Sm掺杂CdS纳米颗粒，并将其应用于可见光下酸性红1（AR1）的光降解以研究其光催化效率。采用响应面法系统评估了操作参数对光催化过程的影响。在最优条件下（[AR1]0=15 mg L-1，[2% Sm-CdS]0=1 g L-1，pH=4，t=94 min），超过83%的AR1分子被降解。该过程动力学符合Langmuir-Hinshelwood准一级模型（kapp=0.0163 min-1）。此外，通过Eyring活化络合物理论证实了该过程的热力学特性，表明在25-45°C温度范围内该光催化过程为吸热且非自发反应。另通过GC-MS技术测定了AR1降解的主要产物及中间体。
关键词： 掺杂Sm的CdS，热力学，可见光光催化，动力学，酸性红1，响应面法
更新于2025-09-09 09:28:46
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紫外/氯高级氧化工艺对扑热息痛的降解：影响因素、析因设计与中间产物鉴定
摘要： 采用低压汞灯与氯联用（UV/氯）这一新兴高级氧化工艺（AOP），考察不同运行条件下对乙酰氨基酚（PRC）的降解效果。结果表明，由于高活性物质（?OH、?Cl和ClO?）的重要贡献，UV/氯工艺比UV/H2O2工艺或单独氯化的对乙酰氨基酚去除速率更快。通过准一级动力学准确测定了对乙酰氨基酚降解速率常数（kobs）。kobs值受氯投加量、溶液pH值、紫外强度及共存天然有机物等运行条件的显著影响。运用响应面法对四个独立变量（次氯酸钠、紫外、pH和DOM）进行优化，建立了预测和优化UV/氯工艺中PRC去除运行条件的数学模型。通过液相色谱-高分辨质谱联用技术检测到20种主要转化产物结构。
关键词： 对乙酰氨基酚、响应面法、紫外/氯、转化产物、反应动力学
更新于2025-09-09 09:28:46
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采用响应面法研究硼硅酸盐玻璃旋转超声钻孔的孔质量
摘要： 本文重点研究在旋转超声钻孔加工高需求陶瓷玻璃"BK-7"时如何减少边缘崩裂和锥度问题。采用实验设计统计工具与背衬板作为两种独立方法来抑制崩裂损伤。通过将中心复合设计与满意度函数相结合构建设计矩阵。研究还着重分析了主轴转速、超声功率和进给速度等工艺参数对崩裂宽度(CW)和锥度(T)的影响。在建立CW和T的二次回归模型后，利用方差分析检验模型拟合度并识别显著项，再通过三维曲面图分析各工艺参数对目标响应的影响。进给速度被证实为对钻孔质量指标"CW"和"T"影响最大的主导因素。较高转速与功率配合较低进给速度的组合能有效降低CW和T。主实验采用的背衬材料经与无背衬板预实验对比，证明其可有效减少CW。扫描电镜(SEM)用于分析不同刀具磨损模式及加工表面微观结构。刀具称重显示钻孔初期以粘结断裂和颗粒断裂为主。除脆性断裂外，SEM还证实加工表面存在塑性变形区域。验证试验中预测值与实验值的微小偏差证明了回归模型在95%置信水平下的预测准确性。
关键词： 超声、磨损、锥度、钻孔、优化、响应面法、崩刃、满意度
更新于2025-09-04 15:30:14
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响应面法优化CuFe?O?/AgBr复合光催化剂降解染料废水的研究
摘要： 本文采用基于中心复合设计（CCD）的简易响应面法（RSM），确定了CuFe2O4/AgBr复合材料光催化降解酸性红88（AR88）的最佳工艺参数。研究了CuFe2O4负载量、污染物初始浓度及光催化剂浓度对AR88降解率的影响。通过统计实验设计，在最优条件下（CuFe2O4负载量34.69%、AR88初始浓度16.34mg/L、光催化剂浓度1.51g/L）实现了94.7%的最大降解率。动力学研究表明该降解过程符合准一级动力学模型。此外，活性物种捕获实验证实·O2-和·OH是主要活性物种。
关键词： CuFe2O4/AgBr复合材料，响应面法，中心复合设计，酸性红88，光催化
更新于2025-09-04 15:30:14
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基体厚度对Ti/AlTiN涂层在相互作用过程中粗糙度的影响参数
摘要： 在碳化钨基体上沉积了Ti/TiAlN涂层，采用Ti0.5Al0.5靶材通过溅射系统完成，这是涂层基体的主要技术之一。本研究旨在开发一个PVD磁控溅射工艺模型，该模型能预测工艺输入参数与涂层性能之间的关系。采用响应面法(RSM)——一种最具成本效益且实用的工艺建模技术。研究了基体厚度对涂层结构特性的影响，并分析了偏压对微观结构的作用。随着偏压增加，晶粒尺寸减小，最小粗糙度降至0.07157(μm)，最大粗糙度达0.7856(μm)。当偏压从50V升至75V时，涂层晶粒尺寸增大，随后继续提高偏压则导致晶粒尺寸减小。
关键词： 相互作用、物理气相沉积、溅射、表面粗糙度、响应面法
更新于2025-09-04 15:30:14
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基于响应面法优化与建模紫外光-TiO?催化降解金黄染料的光催化过程
摘要： 本文采用响应面法的中心复合设计，优化了Evonik P25二氧化钛（PTD）与紫外辐射对金黄色（GY）染料的光催化降解过程。以PTD投加量（X1）、GY染料初始浓度（X2）和紫外辐照强度（X3）为变量构建GY染料光催化降解函数，通过测定脱色率（Y1）和化学需氧量去除率（Y2）两个响应指标实现降解条件优化。X1、X2、X3的考察范围分别为0.5-1.5 g/L、15-35 W/m2和10-30 mg/L。针对Y1和Y2建立二次回归模型，利用Design Expert软件进行数值优化，并通过实际实验验证预测结果。同时研究了光降解动力学、总有机碳去除规律、无机盐影响及H?O?浓度对GY染料光降解的作用。
关键词： 二氧化钛，非均相光催化，中心复合设计，优化，金黄色染料，响应面法
更新于2025-09-04 15:30:14